[发明专利]X射线成像系统及X射线成像方法在审
| 申请号： | 202010014060.4 | 申请日： | 2020-01-07 |
| 公开（公告）号： | CN111110262A | 公开（公告）日： | 2020-05-08 |
| 发明（设计）人： | 王文琳;周莉 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | A61B6/00 | 分类号： | A61B6/00;A61B6/06;G01N23/04;G03B42/02 |
| 代理公司： | 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 | 代理人： | 解婷婷;曲鹏 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种X射线成像系统及X射线成像方法。X射线成像系统包括：发射装置，用于出射准直X射线；调制装置，设置在发射装置与待测物体之间，用于调制准直X射线并形成调制光场；单像素探测装置，设置在待测物体远离调制装置的一侧，用于采集X射线经调制装置和待测物体后的测量信号；处理装置，与单像素探测装置连接，用于将测量信号与预先存储的参考信号进行空间关联计算，获得待测物体的图像。本发明实施例通过设置调制装置，实现了基于参考信号和测量信号空间关联关系获得待测物体的图像。由于采用单像素探测装置采集测量信号，降低了待测物体的采样时间，而且将X射线强度衰减到单光子量级，有效减轻了对生命体的伤害。 | ||
| 搜索关键词： | 射线 成像 系统 方法 | ||
【主权项】：
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