[发明专利]过滤和光学表征微粒的过滤基板、制造过滤基板的方法及过滤基板的用途在审
| 申请号： | 201980025363.1 | 申请日： | 2019-04-11 |
| 公开（公告）号： | CN112041656A | 公开（公告）日： | 2020-12-04 |
| 发明（设计）人： | 克里斯蒂安·哈根多尔夫;卡伊·考夫曼;乌尔丽克·布劳恩 | 申请（专利权）人： | 弗劳恩霍夫应用研究促进协会;安哈尔特应用技术大学;联邦材料研究与测试研究所（BAM） |
| 主分类号： | G01N1/34 | 分类号： | G01N1/34;G01N21/65;G01N15/06;G01N21/35;G01N15/00 |
| 代理公司： | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人： | 黄志华;何月华 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及用于过滤和光学表征微粒的过滤基板。该基板包括厚度为至少100pm且对于波长范围为2500nm至15000nm的辐射的透射度为至少10％的晶片。另外，所述晶片的正面的表面和/或所述晶片的背面的表面全部地或局部地设有防反射层，所述防反射层防止波长范围为200nm至10000nm的辐射的光学反射。此外，所述晶片至少局部地具有直径为1pm至5mm的过滤孔。利用根据本发明的过滤基板，可以以非常高的测量质量对微粒进行过滤以及随后在过滤基板上对微粒进行光学表征。本发明还涉及一种用于制造根据本发明的过滤基板的方法，并且还涉及根据本发明的过滤基板的用途。 | ||
| 搜索关键词： | 过滤 光学 表征 微粒 制造 方法 用途 | ||
【主权项】：
暂无信息
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