[实用新型]一种稳定刻蚀槽液面的装置有效
申请号: | 201922464069.0 | 申请日: | 2019-12-31 |
公开(公告)号: | CN210723079U | 公开(公告)日: | 2020-06-09 |
发明(设计)人: | 任波;谢毅 | 申请(专利权)人: | 通威太阳能(合肥)有限公司;通威太阳能(成都)有限公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L21/67 |
代理公司: | 昆明合众智信知识产权事务所 53113 | 代理人: | 周勇 |
地址: | 230088 安徽*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种稳定刻蚀槽液面的装置,包括挡板,所述挡板顶端开设有波浪状区域,所述波浪状区域在接触液体一侧从下往上设置为斜面。所述挡板底端固定连接有安装板,所述安装板在接触液体一侧从上往下设置为斜平面,所述斜平面上开设有若干凹槽,所述凹槽与刻蚀槽侧壁通过螺丝固定连接。本实用新型通过设置有波浪形端面的挡板并将其安装在刻蚀槽槽体前后方的侧壁上,可以很好的减小刻蚀槽液面波动的情况,而且通过凹槽的配合,可以很好的调节挡板的安装高度,而且不会影响刻蚀槽液面上硅片的传输,达到稳定刻蚀槽液面的目的,解决了现有刻蚀槽液面波动容易导致过刻的问题。 | ||
搜索关键词: | 一种 稳定 刻蚀 液面 装置 | ||
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的