[实用新型]一种磁场约束脉冲展宽成像系统有效
| 申请号： | 201920839817.6 | 申请日： | 2019-06-05 |
| 公开（公告）号： | CN210136836U | 公开（公告）日： | 2020-03-10 |
| 发明（设计）人： | 曹柱荣;王强强;袁铮;陈韬;邓博;邓克立;黎宇坤;江少恩;王峰;杨家敏;黎航;丁永坤 | 申请（专利权）人： | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 |
| 主分类号： | H01J17/49 | 分类号： | H01J17/49;H01J17/02;H01J17/16 |
| 代理公司： | 中国工程物理研究院专利中心 51210 | 代理人： | 翟长明;韩志英 |
| 地址： | 621999 四*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种磁场约束脉冲展宽成像系统。该系统的光电阴极将目标辐射的X光转换为电子，电子在高速渐变电场作用下被色散调制并穿过前端栅网，在屏蔽壳内的等位漂移区中漂移，漂移中电子群的时间尺度被充分展宽，然后穿过后端栅网，经微通道板获得倍增后轰击荧光屏发光，将电信号重新转换为光信号，整个过程电子均处在由磁壳包裹的磁线圈产生的均匀磁场中。该系统可显著改善线圈内磁场分布均匀性，从而最大限度降低电子群的空间弥散。该系统同时具备高时间分辨和高空间分辨能力，有助于推动超高时间分辨二维成像诊断技术的发展，对提升激光惯性约束聚变诊断精密化水平具有重要意义。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 磁场 约束 脉冲 展宽 成像 系统 | ||
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