[实用新型]一种砂布基布防水处理装置有效

专利信息
申请号: 201920352445.4 申请日: 2019-03-20
公开(公告)号: CN209887413U 公开(公告)日: 2020-01-03
发明(设计)人: 王淑芳 申请(专利权)人: 王淑芳
主分类号: B24D11/00 分类号: B24D11/00;B01F7/18;B01F13/10
代理公司: 11297 北京睿博行远知识产权代理有限公司 代理人: 龚家骅
地址: 256500 山东省滨*** 国省代码: 山东;37
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摘要: 实用新型涉及砂布加工设备技术领域,且公开了一种砂布基布防水处理装置,包括支架,所述支架侧面的顶部固定连接有混合箱,所述混合箱底端的中部固定套装有出料管,且混合箱底部的一侧固定安装有PH检测装置。该砂布基布防水处理装置,通过将原料堆放在加料箱的进料口处,当需要进行原料配置时,打开电磁阀,原料通过输料管落入计量箱中,利用计量箱底部的计量装置对计量箱内的原料进行称重计量,当计量箱内的原料达到设定值时,电磁阀关闭输料管,启动电推杆带动挡板打开出料口,利用导料台将物料通过排料管排至混合箱内,从而实现防水涂料制备的高度自动化,降低人工配制产生的误差,实现自动和定量上料。
搜索关键词: 防水处理装置 砂布基布 电磁阀 混合箱 计量箱 输料管 计量 本实用新型 称重计量 挡板打开 防水涂料 计量装置 加工设备 进料口处 物料通过 原料配置 支架侧面 出料管 出料口 导料台 电推杆 固定套 加料箱 排料管 原料堆 砂布 上料 支架 制备 配制 自动化
【主权项】:
1.一种砂布基布防水处理装置,包括支架(1),其特征在于:所述支架(1)侧面的顶部固定连接有混合箱(2),所述混合箱(2)底端的中部固定套装有出料管(3),且混合箱(2)底部的一侧固定安装有PH检测装置(4),所述混合箱(2)顶端的中部固定安装有第一电机(5),所述第一电机(5)的输出轴上固定套装有第一转轴(6),所述第一转轴(6)上固定套装有搅拌桨(7),所述混合箱(2)侧面的中部固定安装有第二电机(8),所述第二电机(8)的输出轴上固定套装有第二转轴(9),所述第二转轴(9)上固定套装有刀片组(10),所述混合箱(2)顶部的两侧设有加料箱(11),所述加料箱(11)内腔的顶部设有进料口(12),且加料箱(11)的内部固定连接有位于进料口(12)底部的隔板(13),所述进料口(12)的底部固定套装有输料管(14),所述输料管(14)上固定套装有电磁阀(15),且输料管(14)的底部固定套接有位于加料箱(11)内部的计量箱(16),所述计量箱(16)内腔的底部设有导料台(17),所述导料台(17)的两侧均开设有出料口(18),且导料台(17)的底部设有计量装置(19),所述加料箱(11)内腔底端的中部固定套装有排料管(20),所述计量箱(16)内腔的侧面固定安装有电推杆(21),所述电推杆(21)的一端固定连接有挡板(22)。/n
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  • 本实用新型包括一种用于轴类部件抛光的抛光带,包括基材层、涂覆于基材层上的底胶层、粘结于底胶层上的磨料颗粒、以及进一步固定磨料颗粒的复胶层,所述的磨料颗粒的顶部伸出复胶层;所述的磨料颗粒之间留有形成排屑通道的空隙,所述空隙在基材层上的投影面积占整个基材层面积的20%~40%。该抛光带打磨时具有较高的打磨效率,并且能较好地满足光洁度要求,特别适合于曲轴、凸轮轴和齿轮轴等轴类部件的打磨。
  • 一种弹性砂带及其制备方法以及打磨机器-201910703129.1
  • 陈祉序;邱爽 - 陈祉序;邱爽
  • 2019-07-31 - 2019-12-03 - B24D11/00
  • 本发明提一种弹性砂带及其制备方法以及打磨机器,弹性砂带包括由外至内的打磨层、粘接剂和基材,打磨层通过粘接剂粘附于基材上,打磨层包括打磨颗粒和发泡聚氨酯。通过打磨颗粒和发泡聚氨酯混混实现打磨层具有一定弹性,使得在打磨时噪音较小,没有火花,并且因为砂带具有一定弹性,对于不规则形状的物件也能较好的打磨,不易造成过抛,打磨效果较好。
  • 研磨垫及研磨垫的制造方法-201680027452.6
  • 高木大辅;西藤和夫;田浦歳和 - 阪东化学株式会社
  • 2016-04-14 - 2019-12-03 - B24D11/00
  • 本发明的目的在于提供一种具有高的平坦化精度,且在比较长的期间内研磨速率不易降低的研磨垫及研磨垫的制造方法。本发明的研磨垫包括基材膜;以及研磨层,层叠于基材膜的表面侧且含有研磨粒及其粘合剂,研磨层具有沿着其研磨方向被划分而成的平均高度不同的多种区域,当将与每个区域的自研磨层整体的重心的距离对应的多个分割部分中的研磨层的最大高度的平均值设为区域的基准高度时,邻接的一对区域的基准高度的差为5μm以上且小于100μm。多种区域包含基准区域、与研磨层的平均高度小于基准区域的低高度区域,且可沿着研磨方向交替地配设。研磨层可具有以相等的密度配设的在俯视下呈一定形状的多个研磨部。
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