[实用新型]内置式双重限位机构有效
| 申请号： | 201920219814.2 | 申请日： | 2019-02-21 |
| 公开（公告）号： | CN209754886U | 公开（公告）日： | 2019-12-10 |
| 发明（设计）人： | 顾海洋;杨思远 | 申请（专利权）人： | 杭州众硅电子科技有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/34 | 分类号： | B24B37/34;H01L21/67;H01L21/306 |
| 代理公司： | 31323 上海元好知识产权代理有限公司 | 代理人： | 张妍;刘琰 |
| 地址： | 311305 浙江省杭州*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种内置式双重限位机构，用于抛光晶圆时限位与固定轴连接的摆臂轴旋转范围，包含：第一小轴，第一小轴顶部连接摆臂轴底部，第一小轴底部固定连接固定轴顶部，第一小轴的直径小于固定轴的直径，第一小轴与固定轴同中心轴，摆臂轴底部和固定轴顶部之间形成第一凹槽；电气限位模块，设置在所述第一凹槽内，限位摆臂轴的旋转范围；机械限位模块，设置在第一凹槽内，在电气限位模块故障时，限位摆臂轴的旋转范围；若干个透明防护罩，依次连接的固定安装在固定轴外壁，与第一凹槽位置对应、与第一凹槽的高度相匹配，将电气限位模块和机械限位模块与外界环境隔离。本实用新型可保护电气限位模块和机械限位模块不受抛光区酸碱环境损害。 | ||
| 搜索关键词： | 固定轴 小轴 电气限位 机械限位 本实用新型 限位摆臂 摆臂轴 双重限位机构 固定轴外壁 透明防护罩 凹槽位置 连接摆臂 模块故障 抛光晶圆 酸碱环境 外界环境 依次连接 抛光区 同中心 匹配 隔离 损害 | ||
【主权项】：
1.一种内置式双重限位机构，用于抛光晶圆时限位摆臂的旋转范围，摆臂第一端底部安装有抛光头，摆臂第二端底部固定设有圆柱形的摆臂轴，摆臂轴底部连接固定轴顶部，摆臂轴的直径匹配固定轴的直径，摆臂轴与固定轴同中心轴，旋转电机驱动摆臂轴绕摆臂轴的中心轴旋转从而带动摆臂转动，其特征在于，包含：第一小轴、电气限位模块、机械限位模块和若干个透明防护罩；/n所述第一小轴顶部连接摆臂轴底部，第一小轴底部固定连接固定轴顶部；第一小轴与固定轴同中心轴；第一小轴的直径小于固定轴的直径；摆臂轴底部和固定轴顶部之间形成第一凹槽；/n所述电气限位模块固定设置在所述第一凹槽内，限位摆臂的旋转范围；/n所述机械限位模块固定设置在所述第一凹槽内，在电气限位模块故障时，限位摆臂的旋转范围；/n所述若干个透明防护罩依次连接的固定安装在固定轴外壁，且与第一凹槽位置对应、与第一凹槽的高度相匹配，将电气限位模块和机械限位模块与外界环境隔离。/n
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