[发明专利]密封结构及其设计方法和其制造方法有效
申请号: | 201911377244.0 | 申请日: | 2019-12-27 |
公开(公告)号: | CN111379857B | 公开(公告)日: | 2022-04-22 |
发明(设计)人: | 川内伸郎;木村哲;风间岳;大西亮 | 申请(专利权)人: | 本田技研工业株式会社 |
主分类号: | F16J15/10 | 分类号: | F16J15/10;B22D18/06 |
代理公司: | 北京华夏正合知识产权代理事务所(普通合伙) 11017 | 代理人: | 韩登营;栗涛 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明涉及一种密封结构及其设计方法和其制造方法。具有内方侧的第1侧方内壁(30)和外方侧的第2侧方内壁(34)的收装槽(28)例如形成于第2部件(14)的第2抵接面(18)。密封部件(38)例如其内周壁抵接于第1侧方内壁(30),另一方面其外周壁与第2侧方内壁(34)相间隔。顶部(50)抵接于密封部件(38)的外周壁的弯曲凸部(42)从第2侧方内壁(34)向收装槽(28)的内侧突出。另一方面,在第1侧方内壁(30)上,底部与密封部件(38)的内周壁相间隔的弯曲凹部(44)向收装槽(28)的外侧凹进。据此,能够防止密封部件脱落,且能够消除密封部件断裂的担忧。 | ||
搜索关键词: | 密封 结构 及其 设计 方法 制造 | ||
【主权项】:
暂无信息
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