[发明专利]电解抛光的控制系统及其控制方法有效
| 申请号： | 201911339809.6 | 申请日： | 2019-12-23 |
| 公开（公告）号： | CN113089070B | 公开（公告）日： | 2022-07-15 |
| 发明（设计）人： | 郭盛;陈星建;倪图强 | 申请（专利权）人： | 中微半导体设备（上海）股份有限公司 |
| 主分类号： | C25F3/20 | 分类号： | C25F3/20;C25D11/16 |
| 代理公司： | 上海元好知识产权代理有限公司 31323 | 代理人： | 徐雯琼;张静洁 |
| 地址： | 201201 上海市浦东新*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种电解抛光的控制系统，包括：电解抛光池，填充有电解液，需要电解抛光的工件浸设于电解液中；测量系统，监控并采集电解抛光池内进行电解抛光时各时间段的电信号值，并将电信号值传输给断点控制系统；断点控制系统，接收测量系统采集的电信号值，并对传入的多个电信号值进行比对分析，以判断是否需要维持电解抛光状态，并向电源系统发出相应信号；电源系统，用于向电解抛光池内输入恒定的电压或电流，并接收断点控制系统的信号，当接收到断点控制系统发出的停止电解抛光的信号后，及时切断电源，停止向电解抛光池内输入恒定的电压或电流以结束电解抛光，本发明对电解抛光的状态实时监控，可防止出现未充分抛光或者过抛光现象。 | ||
| 搜索关键词： | 电解 抛光 控制系统 及其 控制 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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