[发明专利]可变点阵全息隐形图案成型方法在审
| 申请号： | 201911155213.0 | 申请日： | 2019-11-22 |
| 公开（公告）号： | CN111300963A | 公开（公告）日： | 2020-06-19 |
| 发明（设计）人： | 陈维斌;陈敏辉;刘振江 | 申请（专利权）人： | 珠海市瑞明科技有限公司 |
| 主分类号： | B41C1/05 | 分类号： | B41C1/05;B41C1/00;B41M3/14 |
| 代理公司： | 广州嘉权专利商标事务所有限公司 44205 | 代理人： | 张志辉 |
| 地址： | 519000 广东省*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种可变点阵全息隐形图案成型方法，包括：设计微结构图案；将微结构图案绘制成光栅点阵；光栅点阵送至铂金浮雕机，铂金浮雕机将光栅点阵参数解读并传送至激光器，激光器将光栅点阵激光蚀刻在光刻胶版上；将蚀刻过的光刻胶版经由显影液显影出图案以成为光刻母片；根据印刷载体，光刻母片将图案转印至定位转移膜、电化铝、复合纸或薄膜上。本方法改变传统的机械切割技术，自主设计微结构图案，再将微结构图案绘制成光栅点阵，依次通过铂金浮雕机和激光器将光栅点阵激光蚀刻在光刻胶版，并形成光刻母片以将图案转印至各类产品上，使得用户在产品表观上看不到图形内容，达到隐形防伪的目的。 | ||
| 搜索关键词： | 可变 点阵 全息 隐形 图案 成型 方法 | ||
【主权项】：
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