[发明专利]一种应用于电解铜箔的阴极辊抛光方法在审
| 申请号： | 201911146135.8 | 申请日： | 2019-11-21 |
| 公开（公告）号： | CN111015371A | 公开（公告）日： | 2020-04-17 |
| 发明（设计）人： | 万大勇;文孟平;陈多锋 | 申请（专利权）人： | 湖北中一科技股份有限公司 |
| 主分类号： | B24B1/00 | 分类号： | B24B1/00;C09G1/18 |
| 代理公司： | 武汉智嘉联合知识产权代理事务所(普通合伙) 42231 | 代理人： | 江慧 |
| 地址： | 432500 湖北省孝*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种应用于电解铜箔的阴极辊抛光方法，其步骤包括：抛光液配制、超声洗净、浸润预抛光和砂轮抛光；所述抛光液配制步骤为：将柠檬酸、草酸、琥珀酸、硝酸钠、苯丙三氮唑、乙醇和去离子水混合均匀后制得抛光液。本发明通过化学预抛光与机械抛光相结合的方式，显著降低了阴极辊抛光时的损伤，提高了阴极辊表面平整一致性，并改善了表面粗糙度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 应用于 电解 铜箔 阴极 抛光 方法 | ||
【主权项】：
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