[发明专利]无纹路缺陷的偏光片制备方法在审
| 申请号： | 201910892504.1 | 申请日： | 2019-09-20 |
| 公开（公告）号： | CN110764179A | 公开（公告）日： | 2020-02-07 |
| 发明（设计）人： | 李广鑫;陆丽颖;李宇;钱琨;陈敏 | 申请（专利权）人： | 深圳市盛波光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30;B29D11/00 |
| 代理公司： | 44248 深圳市科吉华烽知识产权事务所(普通合伙) | 代理人： | 胡吉科 |
| 地址： | 518000 广东省*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开一种无纹路缺陷的偏光片制备方法，该方法包括以下步骤：制备偏光膜：对聚乙烯醇系树脂薄膜进行膨润、染色、拉伸、补色，得到偏光膜；偏光膜干燥：将偏光膜在干燥箱中干燥；偏光膜与两层内保护膜贴合：将偏光膜通过水溶性粘接剂与上下两层内保护膜贴合，得到偏光膜与两层内保护膜的层压体；对偏光膜与两层内保护膜的层压体进行干燥。通过本发明无纹路缺陷的偏光片制备方法可以制备得到无表观纹路缺陷的宽幅薄型偏光片。 | ||
| 搜索关键词： | 偏光膜 制备 纹路 偏光片 两层 保护膜贴合 保护膜 层压体 聚乙烯醇系树脂薄膜 水溶性粘接剂 上下两层 干燥箱 染色 薄型 补色 宽幅 拉伸 膨润 | ||
【主权项】：
1.一种无纹路缺陷的偏光片制备方法，其特征在于，所述方法包括以下步骤：/n步骤S10，制备偏光膜：对聚乙烯醇系树脂薄膜进行膨润、染色、拉伸、补色，得到偏光膜；/n步骤S20，偏光膜干燥：将偏光膜在干燥箱中干燥；/n步骤S30，偏光膜与两层内保护膜贴合：将偏光膜通过水溶性粘接剂与上下两层内保护膜贴合，得到偏光膜与两层内保护膜的层压体；/n步骤S40，对偏光膜与两层内保护膜的层压体进行干燥。/n
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