[发明专利]具有流量分配器的蒸气递送容器在审
申请号: | 201910631736.1 | 申请日: | 2019-07-12 |
公开(公告)号: | CN110714192A | 公开(公告)日: | 2020-01-21 |
发明(设计)人: | C·M·比尔彻;R·埃施巴赫;W·舍伊;J·P·内尔森 | 申请(专利权)人: | 弗萨姆材料美国有限责任公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;H01L21/67 |
代理公司: | 11256 北京市金杜律师事务所 | 代理人: | 吴亦华;徐志明 |
地址: | 美国亚*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 本发明公开了化学前体容器。所述容器包括器皿和限定内部容积的盖、进口导管、出口导管和定位在器皿内部并与进口导管流体流连通的流量分配器。所述流量分配器具有环形形状且包括分配器底板,所述分配器底板具有在其中形成的、用于经过其排出载气的多个孔。所述流量分配器包括内环形壁,所述内环形壁限定所述流量分配器中的通道口,所述通道口允许流体从所述器皿的所述内部容积通过所述流量分配器流到所述出口导管。 | ||
搜索关键词: | 流量分配器 器皿 分配器底板 出口导管 进口导管 内环形壁 通道口 流体 化学前体 环形形状 流连通 排出 载气 | ||
【主权项】:
1.一种用于将化学前体递送到加工设备的容器,所述容器包括:/n器皿,所述器皿包括器皿底板、从所述底板延伸到上器皿边缘的器皿侧壁、以及横跨从所述器皿的中心轴线到所述上器皿边缘的径向距离的盖,所述器皿底板、所述器皿侧壁和所述器皿的盖限定所述器皿中的内部容积,所述器皿具有外表面和内表面;/n进口导管,所述进口导管从所述器皿的所述外表面延伸通过所述器皿到所述器皿的所述内表面;/n流量分配器,所述流量分配器位于所述器皿内部并与所述进口导管流体流连通,所述流量分配器包括至少一个导管,所述导管具有在其中形成的、用于将气体从所述进口导管排出到所述器皿中的多个孔;和/n出口导管,所述出口导管与所述器皿的所述内部容积流体流连通,/n其中所述流量分配器包括分配器底板、分配器顶板、从所述分配器底板的外周边延伸到所述分配器顶板的外周边的外分配器侧壁、以及从所述分配器底板的内周边延伸到所述分配器顶板的内周边的内分配器侧壁,所述分配器底板和所述分配器顶板分别从其内周边横跨到其外周边;和/n其中所述内分配器侧壁在所述流量分配器中限定通道口,所述通道口允许流体从所述器皿的所述内部容积通过所述流量分配器流到所述出口导管。/n
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
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