[发明专利]一种抵抗高水位的水坝系统和方法在审

专利信息
申请号: 201910442659.5 申请日: 2019-05-25
公开(公告)号: CN110258455A 公开(公告)日: 2019-09-20
发明(设计)人: 邢天宜;邢宇 申请(专利权)人: 天津长瑞大通流体控制系统有限公司
主分类号: E02B7/02 分类号: E02B7/02
代理公司: 天津市北洋有限责任专利代理事务所 12201 代理人: 杜文茹
地址: 300382 天津市西*** 国省代码: 天津;12
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摘要: 一种抵抗高水位的水坝系统和方法,有用于拦截江河渠道或水库的水流的高压水坝,高压水坝高于最高水位且一体形成在水坝基底上,在高压水坝远离水流一侧并排且等间隔的设置有第一~第M分层水坝,第一~第M分层水坝均一体形成在水坝基底上,其中,高压水坝与相邻的第一分层水坝,以及每相邻的两个分层水坝之间均形成有设定的间隙,设定的间隙构成用于装载液体缓解水流对高压水坝产生的水流冲击压力的第一~第M缓冲液腔体。将各级缓冲液腔体的水位差逐级降低,减少每级分层水坝所承受的水压负载,延长分层水坝的使用寿命。本发明把压力差人为地按比例分配到每个缓冲液腔中,使得每个缓冲液腔的压力也跟着变化,去平衡来自水深的外界压力。
搜索关键词: 水坝 分层 缓冲液 坝基 水坝系统 高水位 腔体 水流冲击压力 按比例分配 抵抗 使用寿命 外界压力 一体形成 逐级降低 等间隔 人为地 水位差 压力差 均一 水压 水深 装载 拦截 水位 水库 缓解 平衡 渠道
【主权项】:
1.一种抵抗高水位的水坝系统,有用于拦截江河渠道或水库的水流(2)的高压水坝(3),所述高压水坝(3)高于最高水位(C)且一体形成在水坝基底(1)上,其特征在于,在所述高压水坝(3)远离水流(2)一侧并排且等间隔的设置有第一~第M分层水坝(31、32、33...3M‑1、3M.),所述第一~第M分层水坝(31、32、33...3M‑1、3M.)均一体形成在水坝基底(1)上,其中,高压水坝(3)与相邻的第一分层水坝(31),以及每相邻的两个分层水坝(31、32、33...3M‑1、3M.)之间均形成有设定的间隙,所述设定的间隙构成用于装载液体缓解水流(2)对高压水坝(3)产生的水流冲击压力的第一~第M缓冲液腔体(21、22、23...2M‑1、2M.)。
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