[发明专利]一种电波暗室提高暗室性能的新型结构在审
申请号: | 201910362840.5 | 申请日: | 2019-04-30 |
公开(公告)号: | CN110231502A | 公开(公告)日: | 2019-09-13 |
发明(设计)人: | 王军耀 | 申请(专利权)人: | 无锡敬仁电子材料科技有限公司 |
主分类号: | G01R1/18 | 分类号: | G01R1/18;G01R31/00 |
代理公司: | 北京盛凡智荣知识产权代理有限公司 11616 | 代理人: | 蔡奂 |
地址: | 214028 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种电波暗室提高暗室性能的新型结构,包括透波层、屏蔽层和吸波角锥底座;透波层的一侧面与屏蔽层连接,透波层的另一侧设置吸波角锥底座,吸波角锥底座上等间距的设有呈棱锥体形状的尖劈吸波体,吸波角锥底座与所述透波层之间设置有铁氧体层,吸波角锥底座不与透波层相接触,铁氧体层与屏蔽层之间设置有间隙,所述间隙的距离为8‑18mm,所述间隙的距离以透波层作隔层。此种结构可帮助提高吸波材料垂直入射最大反射率,特别针对30MHz至1GHz低频阶段有特别的好处,电波暗室最关键的性能指标是NSA误差,提高了吸波材料的垂直入射最大反射率,NSA的误差会减小,暗室的性能提高30%。 | ||
搜索关键词: | 透波层 角锥 吸波 底座 电波暗室 屏蔽层 暗室 最大反射率 垂直入射 铁氧体层 吸波材料 棱锥体 吸波体 隔层 尖劈 减小 侧面 帮助 | ||
【主权项】:
1.一种电波暗室提高暗室性能的新型结构,其特征在于:包括透波层(1)、屏蔽层(2)和吸波角锥底座(3);所述透波层(1)的一侧面与所述屏蔽层(2)连接,所述透波层(1)的另一侧设置所述吸波角锥底座(3),所述吸波角锥底座(3)上等间距的设有呈棱锥体形状的尖劈吸波体(31),所述吸波角锥底座(3)与所述透波层(1)之间设置有铁氧体层(4),所述吸波角锥底座(3)不与所述透波层(1)相接触,所述铁氧体层(4)与所述屏蔽层(2)之间设置有间隙,所述间隙的距离为8‑18mm,所述间隙的距离以透波层作隔层。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于无锡敬仁电子材料科技有限公司,未经无锡敬仁电子材料科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201910362840.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。