[发明专利]多碘修饰的氟硼二吡咯类衍生物及其制备方法和应用有效
| 申请号： | 201910299092.0 | 申请日： | 2019-04-15 |
| 公开（公告）号： | CN110003461B | 公开（公告）日： | 2021-08-24 |
| 发明（设计）人： | 郭正清;何慧;陈华兵;杨红;饶佳明;史梦柯;王孟雅;应宇辰;张韶 | 申请（专利权）人： | 苏州大学 |
| 主分类号： | C08G65/337 | 分类号： | C08G65/337;C08G65/333;A61K41/00;A61P35/00 |
| 代理公司： | 苏州市中南伟业知识产权代理事务所(普通合伙) 32257 | 代理人： | 李艾 |
| 地址： | 215000 *** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种多碘修饰的氟硼二吡咯类衍生物，该氟硼二吡咯类衍生物以氟硼二吡咯为母核，通过缩合反应延长了氟硼二吡咯的共轭体系，并在末端引入亲水的乙二醇链，再通过亲电取代反应引入不同数量的碘原子得到的。本发明还公开了所述氟硼二吡咯类衍生物的制备方法及其应用。本发明的多碘修饰的氟硼二吡咯类衍生物，同时具有光动力和光热治疗效果，相应地避免了临床光敏剂的治疗效果单一和靶向性差的缺点。 | ||
| 搜索关键词： | 修饰 氟硼二 吡咯 衍生物 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
1.一种多碘修饰的氟硼二吡咯类衍生物，其特征在于，所述多碘修饰的氟硼二吡咯类衍生物具有如式(Ⅰ)所示的结构式：![]()
其中，R为H或I；R1为：![]()
n＝11～227且n为正整数。
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