[发明专利]一种OLED用ITO蚀刻液及其制备方法和应用在审
| 申请号： | 201910039183.0 | 申请日： | 2019-01-16 |
| 公开（公告）号： | CN109575922A | 公开（公告）日： | 2019-04-05 |
| 发明（设计）人： | 傅华;刘兵;高小云 | 申请（专利权）人： | 苏州晶瑞化学股份有限公司 |
| 主分类号： | C09K13/00 | 分类号： | C09K13/00;H01L51/56 |
| 代理公司： | 苏州国诚专利代理有限公司 32293 | 代理人： | 王丽 |
| 地址： | 215124 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种金属材料的化学蚀刻用组合物及其制备工艺，具体涉及一种OLED用ITO蚀刻液及其制备方法和应用，由以下原料制备而成，原料按照质量份数组成，混合酸1‑10份、铵盐0.05‑0.08份、钾盐0.1‑0.2份、表面活性剂0.01‑2份、消泡剂0.01‑0.1份、去离子水100份。本发明提供的一种OLED用ITO蚀刻液，加工工艺参数容易控制，可以在现有设备上对ITO膜高精度地进行蚀刻加工；在蚀刻技工的过程中使用安全，不易对人体和设备造成伤害。 | ||
| 搜索关键词： | 蚀刻液 制备方法和应用 蚀刻 加工工艺参数 表面活性剂 金属材料 化学蚀刻 去离子水 蚀刻加工 现有设备 原料制备 制备工艺 混合酸 消泡剂 质量份 钾盐 铵盐 伤害 | ||
【主权项】：
1.一种OLED用ITO蚀刻液，其特征在于：由以下原料制备而成，原料按照质量份数组成，混合酸1‑10份、铵盐0.05‑0.08份、钾盐0.1‑0.2份、表面活性剂0.01‑2份、消泡剂0.01‑0.1份、去离子水100份。
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