[发明专利]宽视野电光调制器以及制造和使用它的方法和系统在审
| 申请号： | 201880090400.2 | 申请日： | 2018-12-26 |
| 公开（公告）号： | CN112740100A | 公开（公告）日： | 2021-04-30 |
| 发明（设计）人： | B·施密特;P·S·班克斯;C·S·图威;C·A·埃伯斯 | 申请（专利权）人： | 恩耐股份有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/03 | 分类号： | G02F1/03 |
| 代理公司： | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人： | 杨小明 |
| 地址： | 美国华*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 电光调制器(EOM)包含被配置为接收光的第一电光(EO)材料。第一EO材料具有不平行于EOM的光轴的光轴。所述光轴指示通过第一EO材料的方向，沿着该方向穿过第一EO材料的光线不经历双折射。EOM还包括接收从第一EO材料输出的光的偏振旋转器。经旋转的光穿过第二EO材料。第二EO材料位于EOM内，使得其光轴不平行于EOM的光轴。第二EO材料补偿第一材料的双折射和/或更高阶光学效应，由此减少EOM的光学透射误差。EOM可以提供更宽的成像系统的视野。 | ||
| 搜索关键词： | 视野 电光 调制器 以及 制造 使用 方法 系统 | ||
【主权项】：
暂无信息
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