[发明专利]展现出减少的表面刮痕的用于抛光存储器硬盘的组合物及方法有效
| 申请号： | 201880075109.8 | 申请日： | 2018-10-25 |
| 公开（公告）号： | CN111655809B | 公开（公告）日： | 2022-05-17 |
| 发明（设计）人： | 张珂 | 申请（专利权）人： | CMC材料股份有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;C09G1/04;C09K3/14;H01L21/306 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 邢岳 |
| 地址： | 美国伊*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供化学机械抛光组合物，包含：(a)湿法氧化硅，(b)(i)式(I)的醇与(ii)式(II)的醇的组合，(c)过氧化氢，(d)矿物酸，及(e)水，其中，该抛光组合物的pH为约1至约5。本发明还提供通过以下步骤来化学机械地抛光基板尤其是镍‑磷基板的方法：使基板与抛光垫及该化学机械抛光组合物接触，相对于该基板移动该抛光垫及该抛光组合物，以及研磨该基板的至少一部分以抛光该基板。 | ||
| 搜索关键词： | 展现 减少 表面 刮痕 用于 抛光 存储器 硬盘 组合 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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