[发明专利]片状颜料、印刷油墨、防伪元件及生产方法有效

专利信息
申请号: 201880061629.3 申请日: 2018-09-19
公开(公告)号: CN111132851B 公开(公告)日: 2021-11-09
发明(设计)人: C.富斯;M.拉姆;M.海姆;P.伦纳;P.希夫曼;C.门格尔 申请(专利权)人: 捷德货币技术有限责任公司
主分类号: B42D25/324 分类号: B42D25/324;B42D25/378;B42D25/29;B42D25/425;C09D5/36;C09D11/50
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 曲莹
地址: 德国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明涉及一种具有层结构的片状颜料,所述层结构按顺序包括以下层:‑可选的载体基材;‑具有压印浮雕结构的透明压印漆层;‑遵循浮雕结构的形状并形成反射微结构的反射增强涂层,其中该反射微结构以多个反射镶嵌元件的镶嵌形式存在,并且反射镶嵌元件不是相对于薄片的平面沿着镜面反射方向反射入射光,而是沿着不同于镜面反射方向的方向反射入射光并且分别具有大于2微米的横向尺寸l。
搜索关键词: 片状 颜料 印刷 油墨 防伪 元件 生产 方法
【主权项】:
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  • V.雷克;A.格雷加雷克;A.巴尔 - 捷德货币技术有限责任公司
  • 2019-07-09 - 2022-02-11 - B42D25/324
  • 本发明涉及一种用于保护防伪纸、有价文件和其它数据载体(10)的防伪元件(12),所述元件包括透镜图像,该透镜图像包括由多个微透镜(26)构成的透镜网格(24)和布置在距该透镜网格一定距离处的辐射敏感图案层(30),其中辐射敏感图案层(30)在一个图案区域中包括由辐射作用产生的多个透明区域(40)。根据本发明,辐射敏感图案层(30)至少在图案区域中具有彩色子层(32)和反差子层(34),其中彩色子层(32)包括发色团效果颜料,该颜料在反差子层(32)的背景下具有彩色效果,而在没有反差层的情况下呈现为透明的。
  • 包括微反射镜的防伪元件-201980010558.9
  • K.H.谢雷尔;R.德梅尔;M.R.J.谢雷尔;C.福斯 - 捷德货币技术有限责任公司
  • 2019-05-16 - 2021-12-28 - B42D25/324
  • 本发明涉及一种包括微反射镜的平面防伪元件,所述平面防伪元件(S)具有主平面(H)和微反射镜(3、4),所述微反射镜(3、4)布置为微反射镜模式(1、2),并呈现至少一种设计(P),该设计(P)表现出与主平面(H)相关的设计效果(7、8),在所述防伪元件倾斜时,微反射镜模式(1、2)导致第一种和第二种设计效果(7、8),在围绕主轴(A1)的倾斜运动期间,若防伪元件的取向同时处于围绕副轴(A2)的第一倾斜角度范围(10)内,则出现第一种设计效果(7);在围绕主轴(A1)的倾斜运动期间,若防伪元件的取向同时处于围绕副轴(A2)的第二倾斜角度范围(11)内,则出现第二种设计效果(8)。
  • 有价文件-201880081875.5
  • M.海姆 - 捷德货币技术有限责任公司
  • 2018-12-19 - 2021-11-23 - B42D25/324
  • 本发明涉及一种有价文件,其具有正面(9)和背面(10),在至少从正面的正视图中示出用肉眼能识别的形象(3),在正视图中具有确定的尺寸(B,H)并且具有基体(2),该基体在正视图中具有所述确定的尺寸并且由至少一个透明的薄膜构建,该薄膜在正视图中同样具有所述确定的尺寸,其中,从正面能识别的形象是通过至少部段式金属化的第一压印结构(14)产生的,第一压印结构布置在第一薄膜的一个面上并且横向地,即横向于正视方向地具有变化的轮廓和/或金属化结构,其中,至少部段式金属化的第一压印结构构造在朝向正面的薄膜正面上并且至少部段式金属化的第二压印结构构造在朝向背面的薄膜背面上,并且金属化的压印结构中的至少一个用能实现平整的盖层覆盖。
  • 带有二维纳米结构的防伪元件和该防伪元件的制造方法-201880081940.4
  • H.洛什比勒 - 捷德货币技术有限责任公司
  • 2018-12-19 - 2021-11-23 - B42D25/324
  • 本发明涉及一种用于有价文件的防伪元件,其中,该防伪元件(S)具有:‑介电性基材(2),基材中成型有二维的周期性纳米结构(1),该纳米结构具有定义基平面(5)的大量基面元件(9)和相对而言隆起或下陷的面元件(3),其中,在基面元件(9)与面元件(3)之间分别形成垂直于基平面(5)测定的间距,并且在基面元件(9)与面元件(3)之间构造有连接侧翼,‑其中,基面元件(9)和面元件(3)分别被金属化或高折射层覆盖,所述层较之所述间距更薄,并且基面元件(9)和面元件(3)在纳米结构(1)中交替地布置成规则图案,并且沿平行于基平面(5)延伸的两个方向,面元件(3)的阵列的相应周期(d)在100nm至450nm之间,其中,所述连接侧翼也被金属化或高折射层覆盖,从而使金属化或高折射层连续覆盖纳米结构(1)。
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