[实用新型]单光子雪崩二极管、探测器阵列、图像传感器有效
申请号: | 201822090982.4 | 申请日: | 2018-12-13 |
公开(公告)号: | CN209216990U | 公开(公告)日: | 2019-08-06 |
发明(设计)人: | 臧凯;李爽;马志洁 | 申请(专利权)人: | 深圳市灵明光子科技有限公司 |
主分类号: | H01L31/0232 | 分类号: | H01L31/0232;H01L31/107;H01L27/144;H01L27/146;H01L31/18 |
代理公司: | 广州嘉权专利商标事务所有限公司 44205 | 代理人: | 唐致明;洪铭福 |
地址: | 518000 广东省深圳市南山区西丽*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型公开了一种单光子雪崩二极管、探测器阵列、图像传感器,其中,背照式单光子雪崩二极管设置有陷光结构和侧壁反射墙,入射光经过陷光结构反射、散射、折射后被分散到各个角度,加上侧壁反射墙的反射作用,可以延长光在背照式单光子雪崩二极管中的有效光程,从而提高了光在背照式单光子雪崩二极管中的吸收效率;而包含背照式单光子雪崩二极管的光电探测器阵列和图像传感器,由于具有背照式单光子雪崩二极管,有效提高了光电探测器阵列和图像传感器的光吸收效率。 | ||
搜索关键词: | 单光子雪崩二极管 背照式 图像传感器 反射 光电探测器阵列 探测器阵列 陷光结构 侧壁 本实用新型 光吸收效率 反射作用 吸收效率 有效光程 入射光 散射 折射 | ||
【主权项】:
1.一种背照式单光子雪崩二极管,其特征在于,所述背照式单光子雪崩二极管由下至上依次设置有衬底、电路层、氧化硅层和硅探测层,所述硅探测层包括第一类型掺杂区、第二类型掺杂区、第三类型掺杂区和侧壁反射墙,所述第二类型掺杂区或者所述第三类型掺杂区与所述第一类型掺杂区形成倍增结,所述第三类型掺杂区为掺杂浓度变化的掺杂区,所述背照式单光子雪崩二极管中设置有陷光结构。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
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