[实用新型]化学气相沉积炉及化学气相沉积设备有效
申请号: | 201821947553.8 | 申请日: | 2018-11-23 |
公开(公告)号: | CN209522919U | 公开(公告)日: | 2019-10-22 |
发明(设计)人: | 朱伟杰;顾志强;戴建庭;董宁;李强 | 申请(专利权)人: | 中化国际(控股)股份有限公司 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44;C23C16/26 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 韦东 |
地址: | 200125 上海市浦东新区中国*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本实用新型提供一种化学气相沉积炉,包括:炉体,进料口,出料口,进气口,出气口和设置于炉体内部的搅拌结构。本实用新型还包括一种化学气相沉积设备,所述设备包括本实用新型所述的化学气相沉积炉,与所述化学气相沉积炉的进料口可拆卸连接的原料仓,和与所述化学气相沉积炉的出料口可拆卸连接的成品仓。本实用新型通过在化学气相沉积炉内设置搅拌结构,使得物料在炉腔内反复移动,实现均匀的碳包覆;通过将原料仓和成品仓设置为可密封拆卸,实现半连续化生产,提高了生产效率。 | ||
搜索关键词: | 化学气相沉积炉 本实用新型 化学气相沉积设备 可拆卸连接 成品仓 出料口 进料口 原料仓 进气口 半连续化生产 炉体内部 生产效率 出气口 可密封 碳包覆 炉腔 炉体 拆卸 移动 | ||
【主权项】:
1.一种化学气相沉积炉,其特征在于,所述化学气相沉积炉包括:炉体,进料口,出料口,进气口,出气口和设置于炉体内部的搅拌结构;其中,所述进料口和出料口分别设置在炉体两端侧面上,所述进气口和出气口分别设置在炉体两端。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
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