[实用新型]光源装置、投影仪有效
| 申请号： | 201821586234.9 | 申请日： | 2018-09-28 |
| 公开（公告）号： | CN208834085U | 公开（公告）日： | 2019-05-07 |
| 发明（设计）人： | 信田和彦;三浦雄一 | 申请（专利权）人： | 优志旺电机株式会社 |
| 主分类号： | G03B21/20 | 分类号： | G03B21/20 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 高迪 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种光源装置及投影仪，使用多个半导体激光器芯片抑制装置规模的扩大并且提高光输出。光源装置具备：多个半导体激光器单元，包括设置在相同或不同的半导体激光器芯片上的多个光射出区域、和第一折射光学系统，第一折射光学系统被入射从相邻的多个光射出区域射出的多个第一光线束，将多个第一光线束分别变换为作为大致平行光线束的多个第二光线束并射出；以及第二折射光学系统，包含具有不同的倾斜角的多个平坦面，从相同的半导体激光器单元射出的多个第二光线束各自的至少一部分入射到不同的平坦面，将多个第二光线束各自的主光线的行进方向变换为与光轴大致平行并射出，第二折射光学系统与半导体激光器单元的数量对应地配置。 | ||
| 搜索关键词： | 折射光学系统 射出 半导体激光器单元 光源装置 半导体激光器芯片 投影仪 光射出区域 平坦面 入射 平行 方向变换 数量对应 抑制装置 光输出 主光线 光轴 行进 配置 | ||
【主权项】：
1.一种光源装置，其特征在于，具备：多个半导体激光器单元，包括多个光射出区域和第一折射光学系统，上述多个光射出区域设置在相同或不同的半导体激光器芯片上，上述第一折射光学系统被入射从相邻的多个上述光射出区域射出的多个第一光线束，将上述多个第一光线束分别变换为作为大致平行光线束的多个第二光线束并射出；以及第二折射光学系统，包含具有不同的倾斜角的多个平坦面，从相同的上述半导体激光器单元射出的多个上述第二光线束各自的至少一部分入射到不同的上述平坦面，将多个上述第二光线束各自的主光线的行进方向变换为与光轴大致平行并射出；上述第二折射光学系统与上述半导体激光器单元的数量对应地被配置。
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