[实用新型]光罩弯曲校正装置及曝光机

摘要

本实用新型涉及一种光罩弯曲校正装置及曝光机，所述光罩弯曲校正装置包括第一光罩保持架、第二光罩保持架及抽真空装置，其中，所述第一光罩保持架为方框形结构，其下表面包括多个第一吸附口，以吸附所述光罩的四周部分；所述第二光罩保持架为杆状结构且与所述第一光罩保持架构成日字形结构，所述杆状结构的下表面包括多个第二吸附口，以吸附所述光罩的中间部分；所述第一光罩保持架和所述第二光罩保持架分别包括连接至抽真空装置的真空接口。该光罩弯曲校正装置设置有第一光罩保持架和第二光罩保持架，能够很大程度上减少曝光过程中光罩自身重力导致的下垂，避免光罩上的图案在转印过程中发生失真现象。

主权项

1.一种光罩弯曲校正装置，其特征在于，包括第一光罩保持架(5)、第二光罩保持架(6)及抽真空装置，其中，所述第一光罩保持架(5)为方框形结构，所述方框形结构的下表面包括多个第一吸附口(7)，以吸附所述光罩(2)的四周部分；所述第二光罩保持架(6)为杆状结构且与所述第一光罩保持架(5)构成日字形结构，所述杆状结构的下表面包括多个第二吸附口(8)，以吸附所述光罩(2)的中间部分；所述多个第一吸附口(7)和所述多个第二吸附口(8)设置在同一平面上；所述第一光罩保持架(5)和所述第二光罩保持架(6)均包括真空接口(9)，所述第一吸附口(7)和所述第二吸附口(8)分别通过所述真空接口(9)连接至所述抽真空装置。