[实用新型]掩模版清洁装置有效
| 申请号： | 201821285955.6 | 申请日： | 2018-08-09 |
| 公开（公告）号： | CN208673040U | 公开（公告）日： | 2019-03-29 |
| 发明（设计）人： | 张祥平;李天慧;黄晓橹;龙海凤 | 申请（专利权）人： | 德淮半导体有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/82 | 分类号： | G03F1/82;G03F7/20;B08B5/02;B08B13/00 |
| 代理公司： | 上海盈盛知识产权代理事务所(普通合伙) 31294 | 代理人： | 孙佳胤;陈丽丽 |
| 地址： | 223300 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及半导体制造技术领域，尤其涉及一种掩模版清洁装置。所述掩模版清洁装置，包括用于检测掩模版上颗粒物坐标的曝光机，还包括用于容纳所述掩模版的密闭腔室、以及位于所述密闭腔室内的吹扫组件；所述吹扫组件连接所述曝光机，用于获取所述掩模版上颗粒物的坐标，并根据所述坐标对所述掩膜版进行吹扫，以清除所述掩模版上的颗粒物。本实用新型实现了对掩模版的自动清洁，避免了人工清洁方式的繁琐操作。 | ||
| 搜索关键词： | 掩模版 清洁装置 颗粒物 本实用新型 吹扫组件 曝光机 半导体制造技术 密闭腔室 清洁方式 自动清洁 密闭腔 掩膜版 吹扫 容纳 室内 检测 | ||
【主权项】：
1.一种掩模版清洁装置，包括用于检测掩模版上颗粒物坐标的曝光机，其特征在于，还包括用于容纳所述掩模版的密闭腔室、以及位于所述密闭腔室内的吹扫组件；所述吹扫组件连接所述曝光机，用于获取所述掩模版上颗粒物的坐标，并根据所述坐标对所述掩模版进行吹扫，以清除所述掩模版上的颗粒物。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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