[发明专利]吸波器及吸波器的制造方法在审
| 申请号： | 201811269362.5 | 申请日： | 2018-10-29 |
| 公开（公告）号： | CN109301495A | 公开（公告）日： | 2019-02-01 |
| 发明（设计）人： | 武明静;亓丽梅;李永龙;陈智娇;姚远;俞俊生 | 申请（专利权）人： | 北京邮电大学 |
| 主分类号： | H01Q17/00 | 分类号： | H01Q17/00 |
| 代理公司： | 北京柏杉松知识产权代理事务所(普通合伙) 11413 | 代理人： | 丁芸;项京 |
| 地址： | 100876 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明实施例提供了一种吸波器及吸波器的制造方法，本发明实施例提供的吸波器，顶层的谐振层、中层的介质层和底层的薄膜层，均为透明结构，因而，将上述吸波器涂覆在加载物上，不会影响加载物的外观；同时，由于该吸波器谐振层的谐振结构为双环形结构，而双环形结构的吸收频带会叠加，因而，只需要一层谐振层，不需要增加多层谐振层，即不需要复杂的加工工艺就增大了吸波器的吸收带宽，解决了现有宽带吸波器的谐振层加工复杂度高、难度大的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 吸波 谐振层 双环形结构 加载物 透明结构 谐振结构 薄膜层 复杂度 介质层 顶层 多层 宽带 器涂 吸收 叠加 带宽 制造 中层 加工 | ||
【主权项】：
1.一种吸波器，其特征在于，所述吸波器，包括：顶层的谐振层(201)、中层的介质层(202)和底层的薄膜层(203)；其中，所述谐振层(201)包括多个周期单元，所述周期单元包括一个由氧化铟锡ITO薄膜构成的谐振结构；所述介质层(202)为透明介质层；所述薄膜层(203)为ITO薄膜层；所述谐振结构为双环形结构；所述谐振层(201)镀在所述介质层(202)的顶部，与所述介质层(202)构成一个整体；所述薄膜层(203)镀在所述介质层(202)的底部，与所述介质层(202)构成一个整体。
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