[发明专利]一种利用PMOS工艺偏差的弱物理不可克隆函数电路有效

专利信息
申请号: 201811207852.2 申请日: 2018-10-17
公开(公告)号: CN109241782B 公开(公告)日: 2021-04-23
发明(设计)人: 汪鹏君;李刚;张会红;张跃军 申请(专利权)人: 宁波大学
主分类号: G06F21/73 分类号: G06F21/73
代理公司: 宁波奥圣专利代理有限公司 33226 代理人: 方小惠
地址: 315211 浙*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种利用PMOS工艺偏差的弱物理不可克隆函数电路,包括译码电路、时序控制电路、PUF单元阵列和n个共享脚电路,PUF单元阵列由m×n个PUF单元按照m行n列的方式排布形成,PUF单元包括第一PMOS管、第二PMOS管、第三PMOS管和第四PMOS管且四个PMOS管的宽长比均为TSMC 65nm工艺下的最小尺寸:120nm/60nm,每个共享脚电路分别包括第一NMOS管、第二NMOS管、第三NMOS管、第四NMOS管、第一二输入与非门和第二二输入与非门,四个NMOS管的宽长比的取值范围为:2um/60nm~8um/60nm;优点是在具有复位功能的基础上,面积较小,功耗较低,且时延较小,速度快。
搜索关键词: 一种 利用 pmos 工艺 偏差 物理 不可 克隆 函数 电路
【主权项】:
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