[发明专利]活动式并能形成交错纹路的基板在审
| 申请号： | 201811153905.7 | 申请日： | 2018-09-29 |
| 公开（公告）号： | CN110965734A | 公开（公告）日： | 2020-04-07 |
| 发明（设计）人： | 林志滨 | 申请（专利权）人： | 林志滨 |
| 主分类号： | E04F15/024 | 分类号： | E04F15/024;E04F15/18;E04F15/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 张宇园 |
| 地址： | 中国台湾新北市板桥区华*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 一种活动式并能形成交错纹路的基板，该基板用于设置在一支撑脚架上，并可供至少一板片安装于其上，该基板上具有至少一第一区域以及至少一第二区域。该第一区域呈一长条状，该第二区域与该第一区域沿一第一方向相邻设置，并与该第一区域沿一与该第一方向垂直的第二方向形成错位，令该第一区域与该第二区域在该第二方向上形成有一段差，当多个基板相邻排列时，使该板片在该基板上形成有相互交错的纹路。 | ||
| 搜索关键词： | 活动 形成 交错 纹路 | ||
【主权项】：
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