[发明专利]一种用于银纳米线的涂布装置和涂布方法在审
| 申请号： | 201811058029.X | 申请日： | 2018-09-11 |
| 公开（公告）号： | CN109127261A | 公开（公告）日： | 2019-01-04 |
| 发明（设计）人： | 谢礼;关敬党 | 申请（专利权）人： | 深圳市善营自动化股份有限公司 |
| 主分类号： | B05C1/04 | 分类号： | B05C1/04;B05C11/10;B05D1/26 |
| 代理公司： | 深圳鼎合诚知识产权代理有限公司 44281 | 代理人： | 郭燕;彭家恩 |
| 地址： | 518101 广东省深圳*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于银纳米线的涂布装置和涂布方法，所述涂布装置包括：储料机构，用于静置银纳米线浆料；模头机构，用于将所述银纳米线浆料涂布到基体上；所述模头机构与储料机构之间设置有混合组件，和/或模头机构内设置有扰流型流道；所述混合组件和扰流型流道均用于对流过的所述银纳米线浆料扰流，使银纳米线浆料中的银纳米线排布紊乱。利用本装置在涂布银纳米线浆料时，浆料中的银纳米线经过混合组件和/或扰流型流道后排布紊乱，形成杂乱搭接的效果，从而使得基体线阻变小，进一步的提高了成品导电膜的质量。 | ||
| 搜索关键词： | 银纳米线 浆料 扰流 混合组件 模头机构 涂布装置 流道 储料机构 紊乱 浆料涂布 导电膜 变小 搭接 排布 后排 | ||
【主权项】：
1.一种用于银纳米线的涂布装置，其特征在于，包括：储料机构，用于静置银纳米线浆料；模头机构，用于将所述银纳米线浆料涂布到基体上；所述模头机构与储料机构之间设置有混合组件，和/或模头机构内设置有扰流型流道；所述混合组件和扰流型流道均用于对流过的所述银纳米线浆料扰流，使银纳米线浆料中的银纳米线排布紊乱。
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