[发明专利]一种基于光场成像技术的影像仪数字聚焦方法在审
申请号: | 201810971543.6 | 申请日: | 2018-08-24 |
公开(公告)号: | CN109089025A | 公开(公告)日: | 2018-12-25 |
发明(设计)人: | 吴军;陶永奎;郑建文;徐海涛;于之靖 | 申请(专利权)人: | 中国民航大学 |
主分类号: | H04N5/225 | 分类号: | H04N5/225;H04N5/232;H04N17/00;G06T5/00;G06T11/00 |
代理公司: | 天津才智专利商标代理有限公司 12108 | 代理人: | 庞学欣 |
地址: | 300300 天*** | 国省代码: | 天津;12 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种基于光场成像技术的影像仪数字聚焦方法。其包括构建光场成像系统;得到原始四维光场图像;形成二维光场图像;得到清晰度评价值;得到各清晰成像面的像距;得到对应的被测样品的几何尺寸等步骤。本发明提供的基于光场成像技术的影像仪数字聚焦方法与现有技术相比具有如下优点:a)本发明方法简单易行,不需要增加其他的硬件设施,充分利用光场相机自身的结构特点,通过对原始光场数据进行处理便可实现光场相机的高清晰成像;b)该方法系统简单,技术原理清晰易懂,且过程中无机械部件运动,精确度可靠,适用范围广泛,成本低。 | ||
搜索关键词: | 光场成像 影像仪 光场相机 聚焦 高清晰成像 无机械部件 被测样品 二维光场 光场图像 技术原理 清晰成像 硬件设施 场数据 原始光 构建 四维 像距 图像 清晰 | ||
【主权项】:
1.一种基于光场成像技术的影像仪数字聚焦方法,其特征在于:所述的聚焦方法包括按顺序进行的下列步骤:1)构建光场成像系统,该系统包括测试台底座(1)、光场相机(3)、光场相机支座(4)、测试台支架(5)和测试台立轴(6);其中测试台底座(1)水平设置,表面中部形成有一个用于放置被测样品(2)的凹槽;测试台立轴(6)的下端固定在测试台底座(1)的表面一侧;测试台支架(5)水平设置,一端固定在测试台立轴(6)的上端;光场相机支座(4)的上端固定在测试台支架(5)的另一端,下端安装光场相机(3),并且光场相机(3)位于测试台底座(1)上凹槽的上方;光场相机(3)上设有主透镜(7)、由多个微透镜构成的微透镜阵列(8)和由多个传感器构成的传感器阵列(9);2)首先提取光场相机(3)的参数,然后将被测样品(2)放在测试台底座(1)上的凹槽内,利用光场相机(3)对被测样品(2)进行光场成像,得到原始四维光场图像;3)提取出光场相机(3)内的白色校正图像,用圆形区域均值滤波器对选定的白色校正图像进行滤波,以去除传感器的噪声,根据微透镜的理论直径得到每个微透镜的理想中心位置,然后在该位置附近寻找像素峰值点作为该微透镜图像的中心,从而标定像素光场,最后对微透镜进行六边形到正交格点的校正,并利用光场成像系统的标定点对被测样品(2)的原始四维光场图像进行解析,形成二维光场图像;4)利用改进的数字聚焦算法结合图像清晰度评价函数对上述步骤3)获得的二维光场图像进行数字重聚焦,然后利用图像清晰度评价函数对重聚焦后的二维光场图像再次进行聚焦,得到清晰度评价值;5)利用加权最小二乘准则进行高斯曲线拟合求取极值的方法对步骤4)获得的精对焦图像的清晰度评价值进行归一化处理,以此作为拟合曲线的基础数据,求解加权系数,拟合曲线求极值,找到最佳清晰输出图像,进而得到各清晰成像面的像距;6)利用对焦测距的方法对步骤5)获得的各清晰成像面的像距,结合高斯成像公式的测距方法,通过光场相机(3)的焦距f计算出实际物距u,进而得到对应的被测样品(2)的几何尺寸。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国民航大学,未经中国民航大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201810971543.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种可微距拍摄的摄像头模组
- 下一篇:一种全景摄像头模组