[发明专利]一种用于地板能释放负离子的大理石纹路膜的制备方法在审

专利信息
申请号: 201810858428.8 申请日: 2018-07-31
公开(公告)号: CN109096863A 公开(公告)日: 2018-12-28
发明(设计)人: 罗先长;许军华;谢勇 申请(专利权)人: 罗先长;许军华;谢勇
主分类号: C09D161/28 分类号: C09D161/28;C09D5/08;C09D5/14;C09D7/61;C09D7/65
代理公司: 成都金英专利代理事务所(普通合伙) 51218 代理人: 袁英
地址: 610000 四川省成都市青*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明公开了一种用于地板能释放负离子的大理石纹路膜的制备方法,包括以下重量份的材料:电气石粉1~5份、三聚氰胺树脂100~120份、硫酸钡4~6份、高硬度耐磨粉5~30份、去离子水20~30份、成膜助剂0.8~1份,分散剂2~3份、钛白粉10~20份、消泡剂0.5~1份、重钙5~10份、pH调节剂0.5~1份、增亮剂1~10份、防霉剂0.5~1份,水洗高岭土5~10份防腐剂0.5~1份。
搜索关键词: 大理石纹路 释放负离子 制备 地板 三聚氰胺树脂 水洗高岭土 成膜助剂 电气石粉 去离子水 防腐剂 防霉剂 分散剂 高硬度 硫酸钡 耐磨粉 消泡剂 增亮剂 重量份 钛白粉 重钙
【主权项】:
1.一种用于地板能释放负离子的大理石纹路膜的制备方法,其特征在于:包括以下重量份的材料:电气石粉1~5份、三聚氰胺树脂100~120份、硫酸钡4~6份、高硬度耐磨粉5~30份、去离子水20~30份、成膜助剂0.8~1份,分散剂2~3份、钛白粉10~20份、消泡剂0.5~1份、重钙5~10份、pH调节剂0.5~1份、增亮剂1~10份、防霉剂0.5~1份,水洗高岭土5~10份防腐剂0.5~1份;其制备方法为;S1、将电气石粉加入三聚氰胺树脂中置于高速搅拌机中进行搅拌,在40~50℃、250r/min下搅拌10~20分钟,在转动的过程中依次加入去离子水、高硬度耐磨粉、硫酸钡、钛白粉、重钙、水洗高岭土、消泡剂、防霉剂、防腐剂、pH调节剂、增亮剂、成膜助剂,提高转速至500r/min;S2、待固体完全溶解之后将混合物置于55~60℃的真空箱中脱泡3~4h,得到混合溶液;S3、将混合溶液经过涂膜机涂膜,在蒸馏水中玻璃后用去离子水浸泡18~20h,在置于60~70℃的烘箱中即得大理石纹路膜。
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