[发明专利]一种用于地板能释放负离子的大理石纹路膜的制备方法在审
申请号: | 201810858428.8 | 申请日: | 2018-07-31 |
公开(公告)号: | CN109096863A | 公开(公告)日: | 2018-12-28 |
发明(设计)人: | 罗先长;许军华;谢勇 | 申请(专利权)人: | 罗先长;许军华;谢勇 |
主分类号: | C09D161/28 | 分类号: | C09D161/28;C09D5/08;C09D5/14;C09D7/61;C09D7/65 |
代理公司: | 成都金英专利代理事务所(普通合伙) 51218 | 代理人: | 袁英 |
地址: | 610000 四川省成都市青*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | 本发明公开了一种用于地板能释放负离子的大理石纹路膜的制备方法,包括以下重量份的材料:电气石粉1~5份、三聚氰胺树脂100~120份、硫酸钡4~6份、高硬度耐磨粉5~30份、去离子水20~30份、成膜助剂0.8~1份,分散剂2~3份、钛白粉10~20份、消泡剂0.5~1份、重钙5~10份、pH调节剂0.5~1份、增亮剂1~10份、防霉剂0.5~1份,水洗高岭土5~10份防腐剂0.5~1份。 | ||
搜索关键词: | 大理石纹路 释放负离子 制备 地板 三聚氰胺树脂 水洗高岭土 成膜助剂 电气石粉 去离子水 防腐剂 防霉剂 分散剂 高硬度 硫酸钡 耐磨粉 消泡剂 增亮剂 重量份 钛白粉 重钙 | ||
【主权项】:
1.一种用于地板能释放负离子的大理石纹路膜的制备方法,其特征在于:包括以下重量份的材料:电气石粉1~5份、三聚氰胺树脂100~120份、硫酸钡4~6份、高硬度耐磨粉5~30份、去离子水20~30份、成膜助剂0.8~1份,分散剂2~3份、钛白粉10~20份、消泡剂0.5~1份、重钙5~10份、pH调节剂0.5~1份、增亮剂1~10份、防霉剂0.5~1份,水洗高岭土5~10份防腐剂0.5~1份;其制备方法为;S1、将电气石粉加入三聚氰胺树脂中置于高速搅拌机中进行搅拌,在40~50℃、250r/min下搅拌10~20分钟,在转动的过程中依次加入去离子水、高硬度耐磨粉、硫酸钡、钛白粉、重钙、水洗高岭土、消泡剂、防霉剂、防腐剂、pH调节剂、增亮剂、成膜助剂,提高转速至500r/min;S2、待固体完全溶解之后将混合物置于55~60℃的真空箱中脱泡3~4h,得到混合溶液;S3、将混合溶液经过涂膜机涂膜,在蒸馏水中玻璃后用去离子水浸泡18~20h,在置于60~70℃的烘箱中即得大理石纹路膜。
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C09 染料;涂料;抛光剂;天然树脂;黏合剂;其他类目不包含的组合物;其他类目不包含的材料的应用
C09D 涂料组合物,例如色漆、清漆或天然漆;填充浆料;化学涂料或油墨的去除剂;油墨;改正液;木材着色剂;用于着色或印刷的浆料或固体;原料为此的应用
C09D161-00 基于醛或酮的缩聚物的涂料组合物
C09D161-02 .只是醛或酮的缩聚物
C09D161-04 .只是醛或酮与酚的缩聚物
C09D161-18 .只是醛或酮与芳烃或其卤素衍生物的缩聚物
C09D161-20 .醛或酮只与含有氢连接到氮上的化合物的缩聚物
C09D161-34 .醛或酮与至少包括在C09D 161/04、C09D 161/18和C09D 161/20两个组中的单体的缩聚物
C09D 涂料组合物,例如色漆、清漆或天然漆;填充浆料;化学涂料或油墨的去除剂;油墨;改正液;木材着色剂;用于着色或印刷的浆料或固体;原料为此的应用
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