[发明专利]蚀刻液组成物及使用该蚀刻液组成物的蚀刻方法有效
| 申请号： | 201810568337.0 | 申请日： | 2018-06-05 |
| 公开（公告）号： | CN108998032B | 公开（公告）日： | 2021-06-04 |
| 发明（设计）人： | 吕志鹏;陈韵慈;廖本男;李懿 | 申请（专利权）人： | 关东鑫林科技股份有限公司 |
| 主分类号： | C09K13/02 | 分类号： | C09K13/02;H01L21/306;H01L21/3213 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 崔亚松 |
| 地址： | 中国台湾桃园市*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 一种蚀刻液组成物，包括：四级铵盐碱性化合物；胺类化合物；以及水性介质，其中，以该蚀刻液组成物的总重计，该四级铵盐碱性化合物的含量为1.0至30％，该胺类化合物之含量为10至60％，该蚀刻液组成物对于硅的不同结晶方向具有接近的蚀刻速率，能降低不同结晶面的硅的蚀刻速率差。 | ||
| 搜索关键词： | 蚀刻 组成 使用 方法 | ||
【主权项】：
1.一种蚀刻液组成物，其特征在于，包括：四级铵盐碱性化合物，以该蚀刻液组成物的总重计，该四级铵盐碱性化合物的含量为1.0至30％；胺类化合物，以该蚀刻液组成物的总重计，该胺类化合物的含量为10至60％；以及水性介质。
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