[发明专利]一种准随机结构的高级衍射抑制光栅有效
申请号: | 201810557606.3 | 申请日: | 2018-06-01 |
公开(公告)号: | CN108761607B | 公开(公告)日: | 2020-11-20 |
发明(设计)人: | 魏来;陈勇;杨祖华;范全平;巫殷忠;曹磊峰 | 申请(专利权)人: | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 |
主分类号: | G02B5/18 | 分类号: | G02B5/18 |
代理公司: | 成都佳划信知识产权代理有限公司 51266 | 代理人: | 马冬新 |
地址: | 621000*** | 国省代码: | 四川;51 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开一种准随机结构的高级衍射抑制光栅,包括不透光基底;所述不透光基底上开设有多个形状和面积相同且互不相交的多边形基元,所述不透光基底上还设置有多个梯形区域,所述多个梯形区域呈正方点阵周期性排列、且正方点阵的周期为d,所述每个梯形区域内有且仅有一个所述多边形基元,所述多边形基元中心在所述梯形区域内随机分布。与现有的高级衍射抑制光栅相比,有效降低了工艺难度,解决了基元加工误差重新引入高级衍射的问题;在红外、可见光、极紫外、软X射线等各个波段均能够有效抑制2n,3n级高级衍射(n为非零整数),为提高光谱测量精度和单色化光谱纯度提供了技术保证和工艺支持。 | ||
搜索关键词: | 一种 随机 结构 高级 衍射 抑制 光栅 | ||
【主权项】:
1.一种准随机结构的高级衍射抑制光栅,其特征在于:包括不透光基底(1);所述不透光基底上开设有多个形状和面积相同且互不相交的多边形基元(2),所述不透光基底上还设置有多个梯形区域(3),所述多个梯形区域呈正方点阵周期性排列、且正方点阵的周期为d,所述每个梯形区域内有且仅有一个所述多边形基元,所述多边形基元中心在所述梯形区域内随机分布。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国工程物理研究院激光聚变研究中心,未经中国工程物理研究院激光聚变研究中心许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201810557606.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种拼接大口径光子筛的制作方法
- 下一篇:一种大工艺宽容度的高级衍射抑制光栅