[发明专利]一种基于范德华力效应的干黏附垫及其制作方法有效
申请号: | 201810522604.0 | 申请日: | 2018-05-28 |
公开(公告)号: | CN108638403B | 公开(公告)日: | 2020-01-07 |
发明(设计)人: | 楚中毅;王畅;毛宇成;海啸 | 申请(专利权)人: | 北京航空航天大学 |
主分类号: | B29C39/02 | 分类号: | B29C39/02;B29C33/38 |
代理公司: | 11251 北京科迪生专利代理有限责任公司 | 代理人: | 安丽;成金玉 |
地址: | 100191*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明涉及一种基于范德华力效应的干黏附垫及其制作方法。该方法包括:在楔形凹模表面沉积薄膜,该楔形凹模具有多个倾斜的楔形凹槽;将弹性黏附材料浇铸在楔形凹模中,并在室温下固化;将弹性黏附材料从楔形凹模中移出,在弹性黏附材料表面得到倾斜楔形阵列即为基于范德华力效应的干黏附垫。本发明通过在具有多个倾斜的楔形凹槽的楔形凹模表面沉积薄膜,并在其中浇铸弹性黏附材料后放置在室温下固化,再将弹性黏附材料从楔形凹模中移出可以制备出具有低预载,高黏附,易脱附特性的黏附垫。 | ||
搜索关键词: | 楔形 黏附材料 黏附 凹模 范德华力 凹模表面 沉积薄膜 楔形凹槽 移出 固化 浇铸 倾斜楔形 脱附 预载 制备 制作 | ||
【主权项】:
1.一种基于范德华力效应的干黏附垫的制作方法,其特征在于:包括以下步骤:/n步骤1、利用MEMS工艺在楔形凹模表面沉积微米量级的薄膜,所述薄膜厚度范围为1μm—5μm,其中,所述楔形凹模具有多个倾斜的楔形凹槽;/n步骤2、将弹性黏附材料浇铸在所述楔形凹模中,并在室温下固化;/n步骤3、将所述弹性黏附材料从所述楔形凹模中移出,在所述弹性黏附材料表面得到倾斜楔形阵列,由此获得基于范德华力效应的干黏附垫;/n所述楔形凹模为均匀的蜡质材料;/n在步骤1之前,所述方法还包括以下步骤:利用三轴移动机床控制具有楔形特征的刀具,在模具中加工出多个倾斜的所述楔形凹槽得到所述楔形凹模;/n所述刀具进入所述模具的入刀角度β满足0<β<α,其中,α为所述刀具的中心线与所述模具的水平面的夹角;/n通过改变刀具的走刀轨迹,进而改变楔形凹槽的几何形状,从而改变楔形刚毛的几何形状。/n
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