[发明专利]使用热转印膜连续制备有机发光二极管的方法在审

专利信息
申请号: 201810411566.1 申请日: 2018-05-02
公开(公告)号: CN110323361A 公开(公告)日: 2019-10-11
发明(设计)人: 施宏欣 申请(专利权)人: 谦华科技股份有限公司
主分类号: H01L51/56 分类号: H01L51/56;H01L51/50
代理公司: 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 11019 代理人: 寿宁;张华辉
地址: 中国台湾新竹*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明是有关一种使用热转印膜连续制备有机发光二极管的方法,藉由热转印的技术,将依序设置于热转印膜上的转印层(单层、两层或多层)加热,并转印至基板上。以改善传统制备有机发光二极管的真空蒸镀制程中的复杂制程,以及真空蒸镀过后,基板上只能保留不到50%材料,因而材料的使用效率不高的问题。
搜索关键词: 有机发光二极管 热转印膜 连续制备 真空蒸镀 基板 制程 使用效率 热转印 转印层 单层 多层 两层 转印 加热 制备 保留
【主权项】:
1.一种使用热转印膜连续制备有机发光二极管的方法,其特征在于,其步骤包含:取一第一热转印膜及一第二热转印膜,该第一热转印膜的结构由上往下依序为一第一耐热层、一第一基底层、一第一功能层及一第一转印层,该第二热转印膜的结构由上往下依序为一第二耐热层、一第二基底层、一第二功能层及一第二转印层;取一基板,该基板放置于该第一热转印膜的下方;加热该第一热转印膜并转印该第一转印层于该基板之上;移动该基板,该基板移动至于该第二热转印膜的下方;以及加热该第二热转印膜并转印该第二转印层于该基板的该第一转印层之上。
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