[发明专利]光学薄膜和光学元件的制造方法在审
| 申请号： | 201810340346.4 | 申请日： | 2018-04-17 |
| 公开（公告）号： | CN108732659A | 公开（公告）日： | 2018-11-02 |
| 发明（设计）人： | 松本诚谦;圷收;星野和弘 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | G02B3/00 | 分类号： | G02B3/00;G02B5/04;G02B1/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 刘强 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供光学薄膜和光学元件的制造方法。设置在基底基材上的光学薄膜包括主成分为氧化镱的层和主成分为氟化镁的层。主成分为氟化镁的层布置在所述主成分为氧化镱的层上。主成分为氟化镁的层相对于主成分为氧化镱的层与基底基材相对配置。 | ||
| 搜索关键词： | 光学薄膜 氟化镁 氧化镱 光学元件 基底基材 相对配置 制造 | ||
【主权项】：
1.一种设置在基底基材上的光学薄膜，包括：主成分为氧化镱的层；和布置在所述主成分为氧化镱的层上的主成分为氟化镁的层，所述主成分为氟化镁的层相对于所述主成分为氧化镱的层、与所述基底基材相对配置。
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