[发明专利]摩尔纹模拟方法及装置、存储介质、电子设备有效
| 申请号： | 201810253656.2 | 申请日： | 2018-03-26 |
| 公开（公告）号： | CN108509706B | 公开（公告）日： | 2022-04-29 |
| 发明（设计）人： | 毛大龙;高坤坤;付剑波;黄中浩;吴海龙;赵永亮;冉敏;梁鹏;王瑞 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;重庆京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G06F30/20 | 分类号： | G06F30/20 |
| 代理公司： | 北京律智知识产权代理有限公司 11438 | 代理人： | 王卫忠;袁礼君 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本公开涉及计算机技术领域，尤其涉及一种摩尔纹模拟方法及装置、存储介质、电子设备。该方法可以包括：提供一传感器层图案和一色阻图案；根据所述传感器层图案距所述色阻图案的距离、观测点相对所述传感器层图案的位置，对所述色阻图案中与所述传感器层图案中的点对应的点进行校正；根据校正后的所述色阻图案中与所述传感器层图案中的点对应的点的坐标将所述传感器层图案和所述色阻图案进行叠加，以获取目标图案；对所述目标图案进行处理以得到模拟结果。本公开提高了目标图案的精确度，进而提高了摩尔纹模拟的精准度，从而可以有效改善模拟结果与实际结果不匹配的问题，进而提高传感器层图案的良率，同时也有效的避免了设计风险。 | ||
| 搜索关键词： | 摩尔 模拟 方法 装置 存储 介质 电子设备 | ||
【主权项】：
1.一种摩尔纹模拟方法，其特征在于，包括：提供一传感器层图案和一色阻图案；根据所述传感器层图案距所述色阻图案的距离、观测点相对所述传感器层图案的位置，对所述色阻图案中与所述传感器层图案中的点对应的点进行校正；根据校正后的所述色阻图案中与所述传感器层图案中的点对应的点的坐标将所述传感器层图案和所述色阻图案进行叠加，以获取目标图案；对所述目标图案进行处理以得到模拟结果。
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