[发明专利]半色调相移光掩模坯料

摘要

本发明涉及半色调相移光掩模坯料，该半色调相移光掩模坯料具有在透明衬底上的用作半色调相移膜的第一膜、用作遮光膜的第二膜、用作硬掩模膜的第三膜、和第四膜。第一膜和第三膜由含硅材料形成，该含硅材料耐氯基干法刻蚀并通过氟基干法刻蚀可除去。第二膜和第四膜由无硅的含铬材料形成，该含铬材料耐氟基干法刻蚀并通过氯基干法刻蚀可除去。

主权项

1.半色调相移光掩模坯料，其包含：透明衬底，在该衬底上用作半色调相移膜的第一膜，与第一膜邻接形成的用作遮光膜的第二膜，与第二膜邻接形成的用作硬掩模膜的第三膜，和与第三膜邻接形成的第四膜，其中第一膜和第三膜由耐氯基干法刻蚀并通过氟基干法刻蚀可除去的含硅材料形成，第二膜和第四膜由耐氟基干法刻蚀并通过氯基干法刻蚀可除去的无硅的含铬材料形成。