[发明专利]磁瓦表面微缺陷视觉检测方法有效
| 申请号： | 201810095999.0 | 申请日： | 2018-01-31 |
| 公开（公告）号： | CN108230324B | 公开（公告）日： | 2023-10-20 |
| 发明（设计）人： | 李俊峰;胡浩;张沪强;周波 | 申请（专利权）人： | 浙江理工大学 |
| 主分类号： | G06T7/00 | 分类号： | G06T7/00;G06T7/11;G06T7/136;G06T7/62;G06T7/155;G06T7/13;G06T7/64 |
| 代理公司： | 杭州中成专利事务所有限公司 33212 | 代理人： | 金祺 |
| 地址： | 310018 浙江*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明提供一种磁瓦表面微缺陷视觉检测方法，读取磁瓦图像，检测磁瓦图像缺陷，获取磁瓦图像的缺陷区域K，判断缺陷区域K的面积是否大于设定值1；检测磁瓦图像缺陷，获取磁瓦图像的第二类缺陷效果图，判断第二类缺陷效果图的长度是否大于设定值2；检测磁瓦图像缺陷，获取磁瓦图像的边缘检测图像Q'连通域像素的圆度，判断边缘检测图像Q'连通域像素的圆度是否大于设定值3，三个判断过程可以判断磁瓦是否属于三种类型的缺陷，本发明磁瓦表面微缺陷视觉检测方法对光照变化、磁瓦类型变化适应性强；能对磁瓦的各种不同类型的缺陷都进行检测；本发明获得的磁瓦的缺陷图像比采用传统方法获得的磁瓦的缺陷图像更为清晰准确。 | ||
| 搜索关键词： | 表面 缺陷 视觉 检测 方法 | ||
【主权项】：
1.磁瓦表面微缺陷视觉检测方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤(1)：读取磁瓦图像，执行步骤(2)；步骤(2)：检测磁瓦图像缺陷，获取磁瓦图像的缺陷区域K，执行步骤(3)；步骤(3)：判断缺陷区域K的面积是否大于设定值1，如果缺陷区域K大于设定值1，则为不合格，结束检测；否则，为合格，执行步骤(4)；步骤(4)：检测磁瓦图像缺陷，获取磁瓦图像的第二类缺陷效果图，执行步骤(5)；步骤(5)：判断第二类缺陷效果图的长度是否大于设定值2，若第二类缺陷效果图的长度大于设定值2，则为不合格品，结束检测；否则，为合格，执行步骤(6)；步骤(6)：检测磁瓦图像缺陷，获取磁瓦图像的边缘检测图像Q'连通域像素的圆度，执行步骤(7)；步骤(7)：判断边缘检测图像Q'连通域像素的圆度是否大于设定值3，若边缘检测图像Q'连通域像素的圆度大于设定值3，则合格品；否则，为不合格品。
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