[发明专利]一种铋钾双掺铝酸钇新型近红外激光晶体及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201810057892.7 申请日: 2018-01-22
公开(公告)号: CN108265330B 公开(公告)日: 2019-12-24
发明(设计)人: 张沛雄;黄杏彬;尹浩;朱思祁;李真 申请(专利权)人: 暨南大学
主分类号: C30B29/24 分类号: C30B29/24;C30B15/00;H01S3/16
代理公司: 44245 广州市华学知识产权代理有限公司 代理人: 陈燕娴
地址: 510632 广东*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种铋钾双掺铝酸钇新型近红外激光晶体及其制备方法,属于近红外激光增益材料领域,其中,铋钾双掺的铝酸钇晶体中同时掺入铋离子和钾离子,其中铋离子的掺入量为0.1~15at.%,钾离子的参入量为0.1~15at.%。本发明铋钾双掺晶体,铋离子作为激活离子,而钾离子作为优化离子,可以提供局部电荷的补偿作用,铋钾双掺时易变价的Bi
搜索关键词: 铋离子 双掺 铋钾 近红外激光 钾离子 铝酸钇 制备 近红外发光 补偿作用 分凝系数 激光晶体 激光效率 激活离子 局部电荷 增益材料 参入量 掺入量 低价态 掺入 荧光 离子 激光 输出 通信 医疗 军事 科研 应用 优化
【主权项】:
1.一种铋钾双掺铝酸钇新型近红外激光晶体,其特征在于,所述的近红外激光晶体包括晶体基质、铋离子和钾离子,所述的晶体基质为铝酸钇晶体,所述的铋离子作为激活离子和所述的钾离子作为优化离子同时掺入所述的铝酸钇晶体中;所述的铋离子的掺杂浓度范围为0.1~15at.%,所述的钾离子的掺杂浓度范围为0.1~15at.%。/n
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于暨南大学,未经暨南大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201810057892.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。

同类专利
  • 一种GAGG闪烁晶体制造方法-201810433910.7
  • 罗毅 - 安徽科瑞思创晶体材料有限责任公司
  • 2018-05-08 - 2019-11-15 - C30B29/24
  • 本发明涉及闪烁晶体的生长方法,属于一种GAGG闪烁晶体制造方法,一种GAGG闪烁晶体制造方法,具体如下工艺过程和步骤:(a)原料的配置:原料纯度均为99.99%以上的高纯Gd203、A1203、Ga203和Ce02按照质量分数比6:3:5:5混合,将混合的原料置于马弗炉中,在1200℃下煅烧12 h;(b)晶体生长:将所述(a)步骤制取的原料放置到中频感应加热提拉炉内进行生长,以高纯N和O的混合气体为保护气氛,拉速为0.5~3.0 mm/h,转速为5~15 r/min;生长时间为7~15天,生长出长和宽为7~10mm,厚度为3~5mm的GAGG闪烁晶体,对其进行抛光,用乙醇擦洗干净,获得GAGG闪烁晶体。本发明一种GAGG闪烁晶体制造方法,通过优化温场结构和生长工艺参数,采用提拉法技术制备以满足GAGG闪烁晶体的生长需要。
专利分类
×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top