[发明专利]基于高电子迁移率晶体管波前快速扫描成像调制器在审

专利信息
申请号: 201810040941.6 申请日: 2018-01-16
公开(公告)号: CN108417589A 公开(公告)日: 2018-08-17
发明(设计)人: 张雅鑫;蔡雪丹;张亭;曾泓鑫;梁士雄;杨梓强 申请(专利权)人: 电子科技大学
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146;H04L27/04
代理公司: 电子科技大学专利中心 51203 代理人: 邹裕蓉
地址: 611731 四川省成*** 国省代码: 四川;51
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种基于高电子迁移率晶体管HEMT的多像元波前扫描调制器,属于电磁功能器件技术领域。本发明将HEMT与人工电磁媒质谐振结构相结合,通过多单元组合形成了多像元结构体系,可实现对波前的快速多像元调制;本调制器是由外加电压对该波前调制器的像素单元进行独立控制,通过加载的电压信号控制HEMT外延层中二维电子气的浓度,由此改变人工电磁媒质谐振结构的电磁谐振模式,从而实现对波前的快速调制,可用于波前快速扫描成像系统;该波前调制器在工作频点具有较高的振幅调制深度,仿真结果可达90%;本发明结构简单、易于加工、调制速度快且使用方便,易于封装。
搜索关键词: 调制器 像元 调制 高电子迁移率晶体管 波前调制器 电磁媒质 快速扫描 谐振结构 器件技术领域 二维电子气 成像系统 电磁功能 电磁谐振 电压信号 独立控制 仿真结果 工作频点 结构体系 外加电压 像素单元 振幅调制 多单元 外延层 加载 可用 成像 封装 扫描 加工
【主权项】:
1.一种基于高电子迁移率晶体管波前快速扫描成像调制器,其特征在于,包括半导体衬底(1)、外延层(2)、正电压加载极(3)、负电压加载极(4)和P*Q个像素单元(5),其中P和Q均为≥2的正整数;外延层(2)位于半导体衬底(1)的上表面,正电压加载极(3)、负电压加载极(4)和像素单元(5)位于外延层(2)的上表面;每个像素单元(5)包括M*N个亚单元,其中M和N均为≥4的正整数,每个亚单元包括金属工字形人工微结构(6)、栅极连接线(7)和半导体掺杂异质结构(8);金属工字形人工微结构(6)的中间臂的中间位置处具有开口,开口上下分别与中间臂垂直连接有一个短枝节;金属工字形人工微结构(6)的上下两臂与中间臂形成上下对称的两个T形结构;半导体掺杂异质结构(8)位于开口位置的下方,并与两个T形结构连接;栅极连接线(7)位于中间臂的开口处且位于半导体掺杂异质结构(8)的上方;每个像素单元(5)中的亚单元均用同一根栅极连接线(7)连接至负电压加载极(4);每个像素单元(5)中的亚单元的金属工字形人工微结构(6)的上下两臂横向依次连通,作为HEMT的源漏极,并通过同一根金属连接线接至正电压加载极(3)。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于电子科技大学,未经电子科技大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201810040941.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top