[发明专利]用于辐射成像模式的防散射准直器有效

专利信息
申请号: 201780088016.4 申请日: 2017-02-16
公开(公告)号: CN110430815B 公开(公告)日: 2023-10-20
发明(设计)人: 雷恩·霍依特·马斯登;弗拉丹·里斯丹维克 申请(专利权)人: 模拟技术公司
主分类号: A61B6/00 分类号: A61B6/00
代理公司: 北京派特恩知识产权代理有限公司 11270 代理人: 薛恒;王琳
地址: 美国马*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 除其他方面外,本公开提供了一种防散射准直器,所述防散射准直器包括第一层,所述第一层在第一表面处限定第一保持构件。第二层在面向所述第一层的所述第一表面的第一表面处限定第二保持构件。隔板设置在所述第一层和所述第二层之间,并且物理接触所述第一保持构件和所述第二保持构件。所述第一保持构件和所述第二保持构件保持所述隔板相对于所述第一层和所述第二层的位置。所述隔板具有大于所述第一层的第一衰减系数和所述第二层的第二衰减系数的第三衰减系数。将端部支撑件附接到所述第一层和所述第二层。所述端部支撑件与所述隔板的端部接界。
搜索关键词: 用于 辐射 成像 模式 散射 准直器
【主权项】:
1.一种防散射准直器,包括:第一层,所述第一层在其第一表面处限定第一保持构件,其中所述第一层具有第一衰减系数;第二层,所述第二层在其面向所述第一层的所述第一表面的第一表面处限定第二保持构件,其中所述第二层具有第二衰减系数;和隔板,所述隔板设置在所述第一层和所述第二层之间,并且物理接触所述第一保持构件和所述第二保持构件,其中:所述第一保持构件和所述第二保持构件保持所述隔板相对于所述第一层和所述第二层的位置,并且所述隔板具有大于所述第一衰减系数和所述第二衰减系数的第三衰减系数;和端部支撑件,所述端部支撑件附接到所述第一层并且附接到所述第二层,其中所述端部支撑件与所述隔板的端部接界。
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