[发明专利]掩膜板的制造方法和掩膜板在审
| 申请号： | 201780053958.9 | 申请日： | 2017-07-21 |
| 公开（公告）号： | CN109643057A | 公开（公告）日： | 2019-04-16 |
| 发明（设计）人： | 赵小虎 | 申请（专利权）人： | 深圳市柔宇科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/38 | 分类号： | G03F1/38;C23C14/04 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518172 广东省深圳市龙岗区*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 一种掩膜板(100)的制造方法，包括以下步骤。在基板(10)上形成加强层(20)；在加强层(20)上形成导电磁性层(30)；对带有加强层(20)的导电磁性层(30)进行第一图案化处理以得到形成在基板(10)上的图案化结构层(22)；对带有图案化结构层(22)的基板(10)进行第二图案化处理以形成掩膜板(100)。 | ||
| 搜索关键词： | 掩膜板 加强层 基板 图案化结构层 图案化处理 导电磁性 制造 | ||
【主权项】：
PCT国内申请，权利要求书已公开。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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