[实用新型]一种光吸收结构有效
| 申请号： | 201721630177.5 | 申请日： | 2017-11-29 |
| 公开（公告）号： | CN207639083U | 公开（公告）日： | 2018-07-20 |
| 发明（设计）人： | 王超;白永林;王屹山;赵卫;田进寿 | 申请（专利权）人： | 中国科学院西安光学精密机械研究所 |
| 主分类号： | H05K9/00 | 分类号： | H05K9/00;H01Q17/00 |
| 代理公司： | 西安智邦专利商标代理有限公司 61211 | 代理人： | 胡乐 |
| 地址： | 710119 陕西省西*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本实用新型提出了一种光吸收结构，可实现对外来电磁辐射的宽频带、高效率吸收。该光吸收结构包括由内而外依次设置的支撑层、金属薄膜层、陷阱层和由薄膜基底及其内嵌金属纳米颗粒构成的纳米复合层，其中内嵌金属纳米颗粒的体填充因子在5～30％范围，满足入射电磁辐射在内嵌金属纳米颗粒表面引发表面等离子体效应，同时入射电磁辐射在金属薄膜层与陷阱层界面处形成表面等离子体，两种在空间上分离的等离子体在陷阱层中进行对称等离子体耦合作用。本实用新型兼备宽吸收频带和高吸收效率，同时可大大抑制吸波特性对电磁辐射入射角度的敏感度。 | ||
| 搜索关键词： | 金属纳米颗粒 光吸收 陷阱层 入射电磁辐射 电磁辐射 本实用新型 金属薄膜层 内嵌 表面等离子体效应 等离子体 表面等离子体 等离子体耦合 纳米复合层 表面引发 填充因子 吸波特性 吸收效率 依次设置 薄膜基 高效率 界面处 宽频带 敏感度 入射角 支撑层 吸收 对称 | ||
【主权项】：
1.一种光吸收结构，其特征在于：包括由内而外依次设置的支撑层(1)、金属薄膜层(2)、陷阱层(3)和由薄膜基底(4)及其内嵌金属纳米颗粒(5)构成的纳米复合层，其中内嵌金属纳米颗粒(5)的体填充因子在5～30％范围，满足入射电磁辐射在内嵌金属纳米颗粒(5)表面引发表面等离子体效应，同时入射电磁辐射在金属薄膜层(2)与陷阱层(3)界面处形成表面等离子体，两种在空间上分离的等离子体在陷阱层(3)中进行对称等离子体耦合作用。
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