[实用新型]化学机械式研磨装置用承载头的卡环及具备其的承载头有效
申请号: | 201721580200.4 | 申请日: | 2017-11-23 |
公开(公告)号: | CN207464968U | 公开(公告)日: | 2018-06-08 |
发明(设计)人: | 孙准皓;申盛皓 | 申请(专利权)人: | 凯斯科技股份有限公司 |
主分类号: | B24B37/34 | 分类号: | B24B37/34 |
代理公司: | 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 | 代理人: | 姜虎;陈英俊 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | 本实用新型涉及化学机械式研磨装置用承载头的卡环及具备其的承载头,所述卡环安装于在化学机械式研磨工序中将基板加压于研磨垫的承载头,用于约束基板的脱离,所述卡环包括卡环主体、向卡环主体的内周面供应清洗液的清洗液供应部、使清洗液在卡环主体的内周面暂时残留的清洗液残留部,可以获得有效去除流入到卡环内周面的浆料的有利效果。 | ||
搜索关键词: | 卡环 承载头 机械式研磨 内周面 清洗液供应部 本实用新型 供应清洗液 清洗液残留 基板加压 清洗液 研磨垫 基板 浆料 内周 去除 残留 脱离 | ||
【主权项】:
一种化学机械式研磨装置用承载头的卡环,安装于在化学机械式研磨工序中将基板加压于研磨垫的承载头上,用于约束所述基板脱离,其特征在于,包括:卡环主体;清洗液供应部,其用于向所述卡环主体的内周面供应清洗液;清洗液残留部,其借助于在所述卡环主体的内周面凸出形成的残留凸起,使所述清洗液暂时残留在所述卡环主体的内周面。
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