[实用新型]真空发生设备有效

专利信息
申请号: 201721549015.9 申请日: 2017-11-17
公开(公告)号: CN207568952U 公开(公告)日: 2018-07-03
发明(设计)人: 董燕;刘晓金;阳世超 申请(专利权)人: 富泰华工业(深圳)有限公司;鸿海精密工业股份有限公司
主分类号: F04F5/20 分类号: F04F5/20;F04F5/44
代理公司: 深圳市赛恩倍吉知识产权代理有限公司 44334 代理人: 蒋志行;谢蓓
地址: 518109 广东省深圳市宝安区观澜街道大三社*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 实用新型提出一种真空发生设备,其包括基座、控制机构及喷射器,控制机构包括第一电磁阀及第二电磁阀,基座包括本体、第一壳体及第二壳体及逆流片,本体上开设有供气流道、收容槽、出气孔道、第一安装孔及第二安装孔,供气流道具有供气口及出气口,第一电磁阀部分设置于第一安装孔且能够深入供气流道内,第二电磁阀部分设置于第二安装孔内,第二壳体上开设有真空孔道及破真空孔道,真空孔道具有真空口及连通口,逆流片封盖于连通口上,喷射器设置于收容槽内且与出气口相连通,喷射器能够将供气流道的气流转变为高速气流以将喷射器中及周围的空气带走而产生负压,从而使逆流片产生变形而使真空孔道与收容槽相连通而产生负压。
搜索关键词: 供气流道 安装孔 喷射器 真空孔道 收容槽 逆流 真空发生设备 第一电磁阀 第二壳体 出气口 电磁阀 连通口 负压 本实用新型 出气孔道 第一壳体 高速气流 供气口 破真空 真空口 封盖 孔道 变形
【主权项】:
1.一种真空发生设备,该真空发生设备包括基座、控制机构及喷射器,该控制机构包括第一电磁阀及第二电磁阀,其特征在于:该基座包括本体、第一壳体及第二壳体及逆流片,该本体包括第一侧面和第二侧面,该本体上开设有供气流道、收容槽、出气孔道、第一安装孔及第二安装孔,该供气流道具有供气口及出气口,该供气口开设于该本体的一端,该收容槽开设于该第二侧面上且与该出气口相通,该出气孔道与该收容槽相通且贯穿该本体具有该供气口的一端,该第一安装孔开设于该第一侧面上且与该供气流道相通,该第二安装孔贯穿该第一侧面和该第二侧面,该第一电磁阀部分设置于该第一安装孔且能够深入该供气流道内以控制该供气流道的流通,该第二电磁阀部分设置于第二安装孔内以控制该第二安装孔的开闭,该第一壳体设置于该第一侧面上,该第一电磁阀和该第二电磁阀的部分设置于该第一壳体上,该第二壳体设置于该第二侧面上,该第二壳体上开设有真空孔道及破真空孔道,该真空孔道具有真空口及连通口,该真空口开设于该第二壳体的一端,该连通口开设于该第二壳体靠近该本体的一侧且朝向该收容槽,该破真空孔道的两端分别与该真空孔道及该第二安装孔相通,该逆流片设置于该第二壳体上且封盖于该连通口上以对该真空孔道进行保压,该喷射器设置于该收容槽内且与该出气口相连通,该喷射器能够将该供气流道的气流转变为高速气流以将该喷射器中及周围的空气带走而产生负压,从而使该逆流片产生变形而使该真空孔道与该收容槽相连通而产生负压。
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