[实用新型]一种薄膜晶体管、阵列基板、显示装置有效

专利信息
申请号: 201721532908.2 申请日: 2017-11-16
公开(公告)号: CN207367976U 公开(公告)日: 2018-05-15
发明(设计)人: 刘伟;剧永波;靳希康;王志敏;高建斌;陈小广;周鑫博;陈建军 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L29/786;H01L21/336
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 柴亮;张天舒
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 实用新型提供一种薄膜晶体管、阵列基板、显示装置,属于显示技术领域,其可解决现有的LTPS中多晶硅容易被过刻的问题。本实用新型的薄膜晶体管中包括多层绝缘层,其中,至少一层设于低温多晶硅层上方的绝缘层采用树脂材料形成,后续的在该树脂材料中形成过孔时,无需干刻工艺,采用曝光显影的方法即可,可以有效避免该绝缘层下方的低温多晶硅层被过刻。本实用新型的薄膜晶体管还可以增加漏极与低温多晶硅材料层的接触面积和均一性,提高电导率;第二绝缘层的第二过孔与第一绝缘层的第一过孔的曝光显影工艺可以一步完成,大幅减少产品的生产周期,提高设备产能。
搜索关键词: 一种 薄膜晶体管 阵列 显示装置
【主权项】:
1.一种薄膜晶体管,其特征在于,包括衬底,以及设于所述衬底上的低温多晶硅层、多层绝缘层、栅极;其中,至少一层绝缘层由树脂材料构成,且设于所述低温多晶硅层远离衬底的一侧的绝缘层设有过孔。
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