[实用新型]一种用于轨道涂胶机背面清洗的自动化喷头组件有效
| 申请号： | 201721521255.8 | 申请日： | 2017-11-14 |
| 公开（公告）号： | CN207521345U | 公开（公告）日： | 2018-06-22 |
| 发明（设计）人： | 潘钙;张凡文;王毅 | 申请（专利权）人： | 扬州扬杰电子科技股份有限公司 |
| 主分类号： | B08B3/02 | 分类号： | B08B3/02 |
| 代理公司： | 扬州市苏为知识产权代理事务所(普通合伙) 32283 | 代理人： | 周全;陶得天 |
| 地址： | 225008 江苏省扬*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种用于轨道涂胶机背面清洗的自动化喷头组件。涉及半导体制造设备领域，尤其涉及其中清洗喷头的改进。提出了一种结构精巧、使用方面、稳定性高且可对晶片背面的边缘以及侧面进行高效清洗的用于轨道涂胶机背面清洗的自动化喷头组件。设在轨道涂胶机的下方，所述自动化喷头组件包括固定座、内驱动环、外驱动环、喷头座和喷头，喷头座竖直设置、且铰接在固定座中，喷头固定连接在喷头座的顶端、且与喷头的轴心呈20‑80°夹角；本实用新型在不提高设备成本前提的情况下，有效杜绝了晶片背面的边缘以及侧面有光刻胶残留的问题，从源头上避免了产品的污染，保证了产品的品质，从整体上具有设备成本低、清洗效果好以及使用便利等优点。 | ||
| 搜索关键词： | 喷头组件 涂胶机 喷头 清洗 喷头座 自动化 背面 设备成本 轨道 固定座 晶片 半导体制造设备 本实用新型 光刻胶残留 清洗喷头 清洗效果 竖直设置 侧面 内驱动 驱动环 铰接 便利 源头 污染 改进 保证 | ||
【主权项】：
1.一种用于轨道涂胶机背面清洗的自动化喷头组件，其特征在于，设在轨道涂胶机的下方，所述自动化喷头组件包括固定座、内驱动环、外驱动环、喷头座和喷头，所述喷头座竖直设置、且铰接在固定座中，所述喷头固定连接在喷头座的顶端、且与喷头座的轴心呈20‑80°夹角；所述外驱动环和内驱动环均可旋转的连接在固定座的顶面上、且同轴心，所述喷头座位于外驱动环和内驱动环之间，所述喷头座的侧壁上设有若干被动齿，所述外驱动环的内壁上设有若干与被动齿适配的外主动齿，所述内驱动环的外壁上设有若干与被动齿适配的内主动齿。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于扬州扬杰电子科技股份有限公司，未经扬州扬杰电子科技股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201721521255.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种带有翻动杆的循环式医疗器械清洗装置
- 下一篇：一种柱塞冲洗装置
