[实用新型]一种使用均匀相位掩模板制作啁啾光栅的装置有效
| 申请号： | 201721384604.6 | 申请日： | 2017-10-24 |
| 公开（公告）号： | CN207586458U | 公开（公告）日： | 2018-07-06 |
| 发明（设计）人： | 戴立伟;赵云飞 | 申请（专利权）人： | 武汉锐科光纤激光技术股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18;G03F7/20 |
| 代理公司： | 武汉开元知识产权代理有限公司 42104 | 代理人： | 唐正玉 |
| 地址： | 430074 湖北省武汉*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及使用均匀相位掩模板制作啁啾光栅的装置，结构为线性变化的衰减片和均匀相位掩模板分别固定在镜片夹持调节架上，且线性变化的衰减片与均匀相位掩模板平行，光敏光纤固定在光纤夹持精密调节架，且光敏光纤与均匀相位掩模板之间形成一定夹角。本实用新型采用光纤夹持精密调节架使光敏光纤和Mask之间形成一个夹角，这样形成的明暗相间条纹是均匀变化的而不是固定不变的；通过线性变化的衰减片调节，最终使落在光敏光纤的光强是均匀的。通过本实用新型的调节光敏光纤和均匀相位掩模板之间的角度以及更换线性衰减片，制作出不同啁啾率光栅，本实用新型通用性高，不用再采购各种不同型号的定制啁啾模板，降低昂贵的平台搭建材料成本。 | ||
| 搜索关键词： | 均匀相位 掩模板 光敏光纤 本实用新型 线性变化 衰减片 精密调节架 啁啾光栅 光纤夹 线性衰减片 材料成本 均匀变化 明暗相间 平台搭建 光栅 调节架 镜片夹 条纹 光强 制作 平行 采购 | ||
【主权项】：
1.一种使用均匀相位掩模板制作啁啾光栅的装置，包括一套线性变化的衰减片(102)、一个均匀相位掩模板Uniform Mask(103)、一个镜片夹持调节架(104)、一个光纤夹持精密调节架，其特征在于：一套线性变化的衰减片(102)和一个Uniform Mask(103)分别固定在一个镜片夹持调节架(104)上，且线性变化的衰减片(102)与Uniform Mask(103)平行，光敏光纤(101)固定在光纤夹持精密调节架，且光敏光纤(101)与Uniform Mask之间形成一定夹角。
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