[实用新型]一种用于板式PECVD设备的氨气进气管道有效
申请号: | 201720577102.9 | 申请日: | 2017-05-23 |
公开(公告)号: | CN206902231U | 公开(公告)日: | 2018-01-19 |
发明(设计)人: | 傅林坚;石刚;洪昀;祝广辉;王伟星;吴威;高振波 | 申请(专利权)人: | 浙江晶盛机电股份有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455 |
代理公司: | 杭州中成专利事务所有限公司33212 | 代理人: | 周世骏 |
地址: | 312300 浙江*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本实用新型涉及太阳能电池镀膜中的特气管道,旨在提供一种用于板式PECVD设备的氨气进气管道。该种用于板式PECVD设备的氨气进气管道包括两根进气管道Ⅰ和一根进气管道Ⅱ,进气管道Ⅱ的左端与一根进气管道Ⅰ的右端连通,进气管道Ⅱ的右端与另一根进气管道Ⅰ的右端连通。在板式PECVD设备中,使用本实用新型替换现有的氨气进气管道,能够实现三路氨气流量独立控制,以有效地缓解薄膜厚度极差大的问题。 | ||
搜索关键词: | 一种 用于 板式 pecvd 设备 氨气 管道 | ||
【主权项】:
一种用于板式PECVD设备的氨气进气管道,包括进气管道Ⅰ和进气管道Ⅱ,其特征在于,所述进气管道Ⅰ包括第一喷气管、第一气管、第二气管、第三气管、三通接头A,三通接头A的三个接口分别与第一气管的一端、第二气管的一端、第三气管的一端连通,第一气管的另一端、第二气管的另一端分别与第一喷气管的管体连通,且设定第一气管与第一喷气管的连通点在第一喷气管的左侧管体上,第二气管与第一喷气管的连通点在第一喷气管的右侧管体上;第一喷气管的管体上开有喷气孔,且满足:第一喷气管在左端至与第一气管的连通点之间的管体上,至少开有两个喷气孔;第一喷气管在右端至与第二气管的连通点之间的管体上,至少开有两个喷气孔;第一喷气管在与第一气管的连通点至与第二气管的连通点之间的管体上,至少开有四个喷气孔;所述进气管道Ⅱ包括第二喷气管、第四气管、第五气管、第六气管、三通接头B,三通接头B的三个接口分别与第四气管的一端、第五气管的一端、第六气管的一端连通,第四气管的另一端、第五气管的另一端分别与第二喷气管的管体连通,且设定第四气管与第二喷气管的连通点在第二喷气管的左侧管体上,第五气管与第二喷气管的连通点在第二喷气管的右侧管体上;第二喷气管的管体上开有喷气孔,且满足:第二喷气管在左端至与第四气管的连通点之间的管体上,至少开有两个喷气孔;第二喷气管在右端至与第五气管的连通点之间的管体上,至少开有两个喷气孔;第二喷气管在与第四气管的连通点至与第五气管的连通点之间的管体上,至少开有四个喷气孔;进气管道Ⅰ设有两根,进气管道Ⅱ设有一根,进气管道Ⅱ的左端与一根进气管道Ⅰ的右端连通,进气管道Ⅱ的右端与另一根进气管道Ⅰ的右端连通,且依次连通后的进气管道Ⅰ、进气管道Ⅱ、进气管道Ⅰ满足:喷气孔呈直线布置排列,且所有喷气孔的间距相等。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的