[实用新型]一种并联式气体光谱分析双气室有效
申请号: | 201720572768.5 | 申请日: | 2017-05-22 |
公开(公告)号: | CN206740638U | 公开(公告)日: | 2017-12-12 |
发明(设计)人: | 胡雪蛟;向柳;罗丹 | 申请(专利权)人: | 深圳米字科技发展有限公司 |
主分类号: | G01N21/31 | 分类号: | G01N21/31;G01N21/39;G01N21/05 |
代理公司: | 武汉科皓知识产权代理事务所(特殊普通合伙)42222 | 代理人: | 马丽娜 |
地址: | 518116 广东省深圳市龙岗*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本实用新型提供一种并联式气体光谱分析双气室,包括制冷基板和垂直于制冷基板的气室;制冷基板朝向气室的一面上设有光电探测器一、激光器和光电探测器二;所述气室由互不连通的参考气室和测量气室沿垂直于制冷基板的方向并联组成,气室靠近制冷基板的一端设有光学窗口,激光器与气室之间设有分光镜;参考气室远离制冷基板的一端设有平行于制冷基板的反射镜一,测量气室远离制冷基板的一端设有平行于制冷基板的反射镜二,参考气室侧壁两端分别设有标准气体进口和标准气体出口,测量气室侧壁两端分别设有待测气体进口和待测气体出口。参考气室和测量气室之间为可拆卸连接,位置可互换。光路部分可以使用空间光,也可采用光纤以避免光路调节的麻烦。 | ||
搜索关键词: | 一种 并联 气体 光谱分析 双气室 | ||
【主权项】:
一种并联式气体光谱分析双气室,其特征在于:包括制冷基板(1)和垂直于制冷基板(1)的气室;制冷基板(1)朝向气室的一面上设有光电探测器一(2)、激光器(3)、光电探测器二(4);所述气室由互不连通的参考气室(12)和测量气室(13)沿垂直于制冷基板(1)的方向并联组成,气室靠近制冷基板(1)的一端设有光学窗口(18),激光器(3)与气室之间设有分光镜(8);参考气室(12)远离制冷基板(1)的一端设有平行于制冷基板(1)的反射镜一(14),测量气室(13)远离制冷基板(1)的一端设有平行于制冷基板(1)的反射镜二(15),测量气室(13)侧壁两端分别设有待测气体进口(11)和待测气体出口(17),参考气室(12)侧壁两端分别设有标准气体进口(10)和标准气体出口(16)。
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